人教版高一化学必修一:第四章非金属练习题1无答案.docx

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人教版高一化学必修一:第四章非金属练习题1无答案

非金属强化1.在11.2 g铁和铜的合金中加入过量的硝酸溶液,合金完全溶解,同时生成气体X,再向所得溶液中加入足量的NaOH溶液,生成21.4 g沉淀,则下列表示X组成的选项中合理的是(  )A.0.3 mol NO2B.0.3 mol NO;0.1 mol NO2C.0.3 mol NO2;0.1 mol NOD.0.6 mol NO2.在一定量的稀HNO3中慢慢加入铁粉,得到的Fe2+的物质的量(纵坐标)与所加铁粉的物质的量(横坐标)的关系如图所示。请将正确答案的序号填在相应的横线上。①Fe3+ ②Fe2+ ③Fe、Fe2+ ④Fe2+、Fe3+AB段铁元素以________形式存在。(2)BC段铁元素以______形式存在。(3)CD段铁元素以_______形式存在。3.下列说法正确的是:( )A.反应:SiO2+Na2CO3Na2SiO3+CO2↑,说明H2SiO3的酸性大于H2CO3的酸性B.可在试管内完成焦炭和石英砂(SiO2)制取硅的反应C.二氧化硅是生产光导纤维、玻璃的基本原料D.CO2、CH4、N2是温室气体4.用四种溶液进行实验,下表中“操作及现象”与“溶液”对应关系错误的是(  )选项操作及现象溶液A通入CO2,溶液变浑浊饱和Na2CO3溶液B通入CO2,溶液变浑浊,继续通CO2至过量,浑浊消失Na2SiO3溶液C通入CO2,溶液变浑浊,再加入品红溶液,红色褪去Ca(ClO)2溶液D通入CO2,溶液变浑浊,继续通CO2至过量,浑浊消失,再加入足量NaOH溶液,又变浑浊澄清石灰水5.有些科学家提出硅是“21世纪的能源”,这主要是由于作为半导体材料的硅在太阳能发电过程中具有重要的作用。下列有关硅的说法中,不正确的是(  )A.高纯度的硅广泛用于制作计算机芯片B.硅可由二氧化硅还原制得C.低温时,硅与水、空气和酸不反应,但能与氢氟酸反应D.自然界中硅的储量丰富,自然界中存在大量的单质硅6.常温下,下列不发生反应的一组物质是(  )①硅与NaOH溶液 ②硅与盐酸 ③硅与氢氟酸④二氧化硅与碳酸钠⑤二氧化硅与NaOH溶液⑥二氧化硅与浓硝酸A.①②④B.③④⑥C.②⑤⑥D.②④⑥ 7.由下列实验事实得出的结论正确的是(  )A.由SiO2不能与水反应生成H2SiO3,可知SiO2不是H2SiO3的酸酐B.由SiO2+2CSi+2CO↑,可知碳的非金属性大于硅C.CO2通入Na2SiO3溶液产生白色沉淀,可知酸性H2CO3>H2SiO3D.SiO2可与NaOH溶液反应,也可与氢氟酸反应,可知SiO2为两性氧化物8.晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅ⅱ.粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2ⅲ.SiHCl3与过量H2在1 000~1 100 ℃反应制得纯硅已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。请回答下列问题:(1)第ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为_______________________________________。(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点-84.7 ℃),提纯SiHCl3采用的方法为_________________________________。(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):①装置B中的试剂是______________________。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是___________________________________。②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是__________________________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是________________________________,装置D中发生反应的化学方程式为________________________________。③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及__________________。④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂是___(填写字母代号)。碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液9.1.下列氯化物中,既能由金属和氯气直接反应得到,又能由金属和盐酸反应制得的是(   )A.FeCl2B.AlCl3C.FeCl3D.CuCl210.氯水中存在多种分子和离子,它们在不同的反应中表现出不同的性质。下列结论正确的是(  )A.加入有色布条,片刻后有色布条褪色,说明有Cl2存在B.溶液呈浅黄绿色,且有刺激性气味,说明有Cl2存在C.

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