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过程系统 过程系统是通过对流量、温度、压力、液位等的测量和控制来进行生产的一种系统。 广泛应用于各种领域： 钢铁厂 化工厂 环保设备 上下水处理设备 空调设备 半导体工厂 食品工厂 药品工厂 发电厂等 反馈控制 这里以保持容器内液体温度的装置为例， 说明反馈控制过程。 温度检测部分测量容器内液体温度。 将测量的温度值与目标值进行比较， 根据两者之差（偏差） 来确定调节阀的开闭（操作量）。 对调节阀进行操作，调节蒸汽量，使容器内的液体的温度上升或下降。 重复1~3，直至液体温度与目标值之差为零。 本例反馈控制，用方块图来表示 反馈控制的动作过程 在比较部分对目标温度和温度的测量值进行比较。 蒸气量调节部分根据偏差值计算操作量，并将操作信号输送至调节阀。 根据操作信号对调节阀进行操作，向容器内输送蒸气。 容器内液体的温度发生变化后，温度检测部分再次对液体温度进行测量。 反复进行（1）至（4） 用语 说明 比较部分 对目标值和测量值进行比较的部分。 调节部分 根据目标值和测量值信号，生成目标动作所需信号，并将其送至操作部分。 操作部分 将调节部分送来的操作信号转为操作量，使得控制对象产生变化的部分。 控制对象 控制的对象，包括整个机械、过程、装置设备或其中的一部分。 检测部分 传感器等，用于从控制对象中提取必要的控制信号。 外部干扰 对控制进行干扰的、无法预料的外部环境变化。 控制环 为了将操作结果反馈至调节部分而形成的控制回路。是进行过程控制的1个单位。 ON/OFF控制 反馈控制中较为简单的ON/OFF控制。 所谓ON/OFF控制，就是根据偏差值（目标值-测量值）的正负对操作部进行ON/OFF操作的控制。 右图所示为ON/OFF控制方式下调节阀的状态和液体温度的变化。 右图①所示，当液体温度低于目标值时，调节阀全开（ON），供应蒸气。 开始供应蒸汽后，液体温度仍然继续下降，一段时间后开始转为上升，然后如②所示超过目标值。液体温度超过目标值后，调节阀全闭（OFF），停止供应蒸气。 蒸气供应停止后，液体温度仍然继续上升，需要经过一段时间后才转为下降。 ON/OFF控制方式下，液体温度并不能保持为一定值，而是如图所示在不断地变化。 要解决这一问题，可以使用下面介绍的P控制（比例控制）。 P动作（比例动作） 按照偏差值（目标值-测量值）的大小，输出与其成正比的操作量的动作叫做P动作（比例动作）。 P动作可以根据偏差值的大小，对调节阀的开度进行细微的调整，从而减小液体温度的变动。 P动作的操作量用公式 因此偏差值相同时，比例增益越大，操作量就越大，蒸气供应量也大；比例增益越小，操作量就越小，蒸气供应量也随之减少。 P动作对阶跃偏差的操作量如下所示 下图所示为不同比例增益下，P动作控制效果（对容器内液体温度进行P控制的结果）之间的差异。通过调节阀的细微调整，液体温度的变动得以减小。 P动作下，液体温度的变动有所减小，但无法实现测量值与目标值的一致，两者之间会有一定的偏差。 这一偏差叫做偏移（静差或剩余偏差）。 I动作（积分动作）与PI控制 P动作下，无法实现测量值与目标值的一致，两者之间会有一定的偏移。 I动作（积分动作）可以消除这一偏移。 I动作通过对过去到现在的偏差进行时间积分后输出，来消除偏移。（图） I动作一般与P动作组合，作为PI控制来使用。 积分时间越小，消除偏移的时间就越短。积分时间越大，消除偏移的时间越长。 积分时间不同时，PI控制下积分效果的差异如下图所示。 D动作（微分动作） D动作（微分动作）是为了减轻外部干扰对控制对象的影响，而在P动作输出的基础上加上与偏差变化率（偏差的微分）成正比的输出。 一般与PI控制组合，作为PID控制来使用。 下图所示为同一干扰（外部干扰A）导致偏差出现变化时，有D动作和无D动作情况下控制对象响应的差异。如图所示，加上D动作后，可以减轻外部干扰带来的影响。 微分时间越大，D动作带来的操作量越大，微分效果也越大。 D动作（微分动作）与PD控制 [比较实用的D控制：不完全微分] 直接使用D控制时，会使得高频干扰成分增大，导致控制系统不稳定，操作量的时间幅度变小（偏差变为阶跃时会出现瞬间的脉冲波形输出），因此存在无法提供足够的能量来驱动操作部分等问题。因此一般情况下，大多使用在微分项输入中加入一次延时滤波的不完全微分。 偏差为一定