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污水处理第三篇章 工业废水的化学处理方法.ppt
第二节 化学沉淀 四、钡盐沉淀法 ●用于处理六价铬; ●沉淀剂:碳酸钡、氯化钡、硝酸钡、氢氧化钡等。 ●BaCO3+CrO42-=BaCrO4+CO32- ----- 沉淀的转化 ●过量的钡可用石膏法去除。 一、药剂氧化法 氯氧化法 空气氧化法 高锰酸钾氧化法 二、药剂还原法 原理 亚硫酸盐 硫酸亚铁 水合肼 第三章 工业废水的化学处理 3 第三节 药剂氧化还原 ●氧化:得电子――价位降低-―氧化剂(氧、臭氧、氯、漂白粉、三氯化铁) ●还原:失电子――价位升高――还原剂(Fe2+、SO42-、铁、锌、SO2等) 通过药剂与污染物的氧化还原反应,把废水中有毒害的污染物转化为无毒或微毒物质的处理方法称为药剂氧化还原法。 第三节 药剂氧化还原 一、药剂氧化法 ●向废水中投加氧化剂,氧化废水中的有毒有害物质,使其转变为无毒无害的或毒性小的新物质的方法称为氧化法; ●氯系氧化剂包括氯气、氯的含氧酸及其钠盐、钙盐以及二氧化氯; ●氯氧化法:用于去除氰化物、硫化物、酚、醇、醛、油类、脱色、脱臭、杀菌等; ●含氰废水:来源于电镀车间和某些化工厂,如氰化钠、氰化钾、氰化铵等,氰离子为CN-。 1.碱式氯化法基本原理 利用次氯酸根的氧化作用 (ClO-) 漂白粉 2CaOCl2+H2O=2HClO+Ca(OH)2+CaCl2 氯气 Cl2+H2O=HCl+HClO 第三节 药剂氧化还原 一、药剂氧化法 1.碱式氯化法基本原理 ●局部氧化法 氰化物在碱性条件下被氯氧化成氰酸盐。 CN-+ClO-+H2O――――CNCl+2OH- 与pH值无关 CNCl+OH-――――CNO-+Cl-+H2O pH越高反应越快 用量: a.破坏游离氰所需氧化剂的理论用量为: CN:Cl2=1:2.73 CN:NaOCl=1:2.85 CN:漂白粉(有效氯20%~25%)=1:4~5 b.破坏络离子用量:CN:NaOCl=1:3.22 c.还有其它还原物质,故若用NaOCl计,用量为含氰量的5~8倍。 第三节 药剂氧化还原 一、药剂氧化法 第三节 药剂氧化还原 一、药剂氧化法 1.碱式氯化法基本原理 ●完全氧化法 将生成的氰酸根CNO-进一步氧化成N2和CO2,消除氰酸盐对环境的污染。 2NaCNO+3HOCl+H2O=2CO2+N2+2NaCl+HCl+H2O 2CNCl+2HOCl+H2O=2CO2+N2+5HCl pH控制pH小于12 用量 a.氧化剂的用量一般为局部法的1.1-1.2倍; b.药剂分两次投加,分步进行,以保证有效地破坏氰酸盐; c.适当搅拌可加速反应进行。 第三节 药剂氧化还原 一、药剂氧化法 2.碱式氯化法处理含氰废水的工艺流程 含氰废水 调节池 絮凝沉淀池 加碱 滤池 排放 冲洗排水 加凝聚剂 加氧化剂 冲洗水 搅拌 污泥脱水 污泥 一级氧化处理含氰废水基本工艺流程 第三节 药剂氧化还原 一、药剂氧化法 2.碱式氯化法处理含氰废水的工艺流程 两级氧化处理含氰废水基本工艺流程 含氰废水 调节池 一级絮凝池 加碱 滤池 排放 冲洗排水 加凝聚剂 加氧化剂 冲洗水 搅拌 污泥脱水 污泥 沉淀池 二级絮凝池 搅拌 第三节 药剂氧化还原 一、药剂氧化法 3.碱式氯化法注意事项: ●宜用于电镀废水,氰离子含量不大于50mg/L; ●一般情况下采用一级氧化处理,特殊采用二级氧化处理,氧化剂分级投加。 ●设有调节池,宜设两格,有效容积按2-4h平均废水量计算,并设除油、清除沉淀物等设施;间歇处理两格沉淀池交替使用时可不设调节池; ●可采用水力搅拌或机械搅拌; ●氧化剂可采用次氯酸钠、漂白粉、液氯等,其投加量按试验确定或按氰离子与活性氯的重量比计算确定,一级氧化1:3-1:4,两级氧化1:7-1:8; ●一级氧化处理时,采用次氯酸钠、漂白粉、漂粉精时,废水PH控制在10-11,采用液氯时PH控制在11-11.5,反应时间30min;两级氧化时,一级氧化废水PH值控制在10-11,反应时间10-15min,二级氧化PH6.5-7.0,反应时间10-15min。 1.药剂还原法处理含铬废水基本原理 ●含铬废水来源:电镀厂、制革厂、某些化工厂 ●原理:在酸性条件下,利用化学还原剂将六价铬还原成三价铬,然后用碱使三价铬成为氢氧化铬沉淀去除。 六价铬:CrO42-和Cr2O72- 在酸性条件下,主要以Cr2O72-形式存在 CrO42-+2H+==Cr2O72-+H2O 在碱性条件下,主要以CrO42-形式存在 C
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