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丁腈橡胶闭合场非平衡磁控溅射制备dlc膜及摩擦性能研究-材料加工工程专业论文.pdf
Classified Index: TG174 U.D.C.: 621.785Dissertation for the Master Degree in EngineeringTRIBOLOGICAL BEHAVIOR OF DLC FILMS COATED NITRILE RUBBER BY CLOSED-FIELD UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERINGCandidate:Wu QiongyuSupervisor:Prof. Tian XiuboAcademic Degree Applied for:Master of EngineeringSpecialty:Materials Processing EngineeringAffiliation:SchoolofMaterialsScienceand EngineeringDate of Defence:June, 2015Degree-Conferring-Institution:Harbin Institute of Technology摘要类金刚石(DLC)碳膜因具有高的硬度、高耐化学腐蚀性以及低的摩擦系 数与磨损率,是一种很有发展潜力的保护涂层。DLC 膜主要由 C、H 原子组成, 与橡胶的成分相似,因而两者具有良好的相容性。橡胶密封圈与滚动轴承的配 合可以有效防止润滑剂的泄露和灰尘的进入,因而被广泛应用于许多科技领域, 如航空、航天、汽车等。但是,动态橡胶密封圈在使用过程中常常因摩擦系数 大而严重磨损以致失效。因此,在橡胶上沉积 DLC 膜层的研究对于保证工程应 用和节约能源具有重要的意义。本文利用四个励磁线圈构成闭合场非平衡磁控溅射系统,并采用闭合场非 平衡磁控溅射(CFUBMS)法在丁腈橡胶上沉积 DLC 膜。研究 CFUBMS 法在 不同参数下脉冲偏压电源的电特性;利用两个石墨磁控对靶进行 CFUBMS 法 五因素四水平的正交试验,实验试样进行三次不同的摩擦磨损测试和微观结构 检测,分析平均摩擦因数变化、各因素极差和微观结构特点。脉冲偏压电源电特性表明,在 CFUBMS(GD)中,随着励磁线圈电流、沉积 气压和脉冲基底偏压的增加,基体电流也随之上升,而随着 C2H2/Ar 流量比的 增加,基体电流先逐渐升高后又下降;在 CFUBMS(DC)中,基体电流随着励磁 线圈和石墨磁控靶电流的增加而增加,随着脉冲基底偏压的增加先增加后保持 不变,而随着沉积气压和 C2H2/Ar 流量比的增加,基体电流先逐渐升高后又下 降,出现下降点的原因为偏压电源的过流保护。两种方法中 C2H2/Ar 流量比对 基体电流的影响均出现转折点,证明该因素在膜层沉积中的重要影响作用。摩擦磨损测试结果表明,摩擦加载力和速率增加都会引起摩擦因数上升。 当摩擦加载力增加时,摩擦压头压入较深使滞后性摩擦占主导,摩擦因数会突 变增加;摩擦速率增加时,粘滞性摩擦占主导,摩擦因数会随时间缓慢上升。 对趋势图和极差图的分析得出最佳组合:石墨靶电流 1.0A,沉积气压 2Pa, C2H2:Ar=1:3,脉冲偏压-200V(80%)。对薄膜摩擦因数影响程度从大到小依次 是 C2H2/Ar 流量比、石墨靶电流、偏压占空比、脉冲偏压大小和沉积气压。橡胶上 DLC 膜的微观组织结构研究表明,DLC 膜的表面一般由网状结构(与 sp3 键相关)和团簇状结构(与 sp2 键相关)共同组成。DLC 膜层厚度较大 和 sp2 键含量较高时,摩擦因数才能维持在较低的水平。关键词:CFUBMS;DLC;橡胶;摩擦磨损-I-AbstractDiamond-like carbon (DLC) films are an optimal solution as protective coating for many applications, due to the combination of relatively high hardness, chemical inertness, low friction coefficient and low wear rate. Their chemical composition, which is mainly composed by C and H, suggests a good compatibility with rubber materials. Rubber seals are incorporated in ball bearings widely used in many technical fields, like aerospace or automotive industries, in order to prevent the leakag
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