第四章 薄膜的形成与生长.pptVIP

六、低能电子衍射（LEED）和反射式高能电子衍射（RHEED） 第三节 薄膜的结构表征 1927年，戴维孙和革末在观察镍单晶表面对能量为100eV的电子束进行散射时，发现了散射束强度随空间分布的不连续性，即晶体对电子的衍射现象。 工作原理：当电子波（具有一定能量的电子）落到晶体上时，被晶体中原子散射，各散射电子波之间产生互相干涉现象。晶体中每个原子均对电子进行散射，使电子改变其方向和波长。 随着表面科学的发展，低能电子衍射在研究表面结构、表面缺陷、气相沉积表面膜的生成、氧化膜的结构、气体的吸附和催化过程等方面得到了广泛的应用。 第三节 薄膜的结构表征 第三节 薄膜的结构表征 对薄膜的表面进行研究可采用两种方法： ①采用波长较长的电子束，对应的电子束入射角和衍射角均比较大。这时的电子能量较低，因而电子束对样品表面的穿透深度很小。 第三节 薄膜的结构表征 ①采用波长远小于晶体点阵原子面间距的电子束。这时，对应的电子入射角和衍射角均较小，因而穿透深度也只限于薄膜的表层。 低能电子衍射技术是研究表面原子周期结构的有效手段。 在高能电子衍射中，5~100keV能量的电子束以掠射的角度入射在薄膜表面。这一方法的优点在于，由于电子束是掠角入射的，因而衍射装置与其它设备之间在空间位置方面较少干扰。 反射式高能电子衍射是一种研究晶体外延生长、精确测定表面结晶状态以及表面氧化、还原过程等的有效分析手段。可以很方便地观察到薄膜生长的各种模式。 第三节 薄膜的结构表征 第三节 薄膜的结构表征 产生X射线的方法，是高速运动的荷电粒子（电子或离子）骤然停止其运动，则电子的动能可部分转变成X光能，即辐射出X射线。 高速运动的电子与靶材作用可能存在两种情况： （a）电子与原子的核心电场作用 （b）电子与核外电子作用 第三节 薄膜的结构表征 X射线的波动性与粒子性是X射线具有的客观属性 波动性： 1913年德国物理学家劳厄（M.V.Laue）等发现X射线衍射现象，从而证实了X射线本质是一种电磁波。通常波长范围为10~0.001nm，衍射分析仪中常用波长在0.05~0.25nm。 粒子性： X射线是有大量以光速运动的粒子组成的不连续的粒子流，这些粒子叫光量子，每个光量子具有能量： 第三节 薄膜的结构表征 X射线作为一电磁波投射到晶体中时，受到晶体中原子(电子)的散射，以每一个原子为中心发出散射波(球面波)。由于晶体中原子周期排列，这些散射球面波之间存在着固定的位相关系，在空间产生干涉，导致在某些散射方向的球面波相互加强，某些方向上相互抵消，从而出现衍射现象. 第三节 薄膜的结构表征 特定波长的X射线束与晶体学平面发生相互作用时会发生X射线的衍射，衍射现象产生的条件是布拉格公式。这个关系式由英国物理学家布拉格父子于1912年导出，故称为布拉格方程。 2dsinθ=nλ 作用：采取测量入射和衍射X射线的角度信息及强度分布的方法，可以获得晶体点阵类型、点阵常数、晶体取向、缺陷和应力等一系列有关的材料结构信息。 产生衍射的极限条件： 在晶体中产生衍射的波长是有限度的。在电磁波的宽阔波长范围里，只有在X射线波长范围的电磁波才适合探测晶体结构。 由于sinθ不能大于1，因此，nλ/2d=sinθ1，即nλ/2d。对衍射面而言，n的最小值为1，所以在任何可观测的衍射角下，产生衍射的条件为λ/2d。这也就是说，能够被晶体衍射的电磁波的波长必须小于参加反射的晶面最大面间距的二倍，否则不会产生衍射现象。 第三节 薄膜的结构表征 第三节 薄膜的结构表征 解决薄膜衍射强度偏低问题的途径： ①采用高强度的X射线源，如转靶X射线源或同步辐射源等。从而提高相应的衍射信号强度。 ②延长测量时间，以部分抵消强度较弱带来的问题，但在样品信号很弱时，这一方法的有效性受到很大的限制。 ③采用掠角衍射技术，即将X射线以近于与薄膜样品表面平行的方向入射到薄膜表面其结果是大大增加了参与衍射的样品原子数。 第三节 薄膜的结构表征 五、原子力显微镜（AFM） 第三节 薄膜的结构表征 1986年，Binnig，Quate和Gerber发明了原子力显微镜。AFM是采用一个对微弱力极其敏感的易弯曲的微悬臂针尖，并以探测悬臂的微小偏转来分辨各种材料表面上的单个原子。 工作原理如图，对微弱力极其敏感的微悬臂一端固定，另一端则有一微小的针尖。在图像扫描时，针尖与样品表面轻轻接触，而针尖尖端原子与样品表面原子间存在极微弱的排斥力（10-8~10-6N），会使悬臂产生微小偏转。这种偏转被检测出并用作反馈来保持力的恒定，就可以获得微悬臂对应于扫描各点的位置变化，从而可以获得样品表面形貌的图像。 第三节 薄膜的结构表征