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微电子技术实训平台建设与实践探索 　　o引言 　　 　　微电子技术是建立在以集成电路为核心的各种半导体器件上的技术，是信息技术的基础和支柱，是21世纪发展最活跃和技术增长最快的高新科技。微电子产业作为国民经济和社会发展的战略性、基础性和先导性产业,是世界各国及地区经济科技竞争的战略制高点,也是聚集创新要素和投入资源最多的领域w。 　　 　　1微电子技术实训平台建设的重要性 　　 　　(1) 课程体系建设的需求。作为承担工程实践教学的工程训练中心,我们从学以致用”的人才培养理念出发,形成了服务于全校学生的以能力培养为核心，融合知识、能力、素质为一体,基于分层次、多模块、重集成的实训教学模式。微电子技术实训的课程是机电工程综合课程体系的主要组成部分，它由工程认识、工程训练、工程综合创新几个层次的教学内容所组成。 　　 　　(2) 综合能力培养的需求。工程训练教学的主要目标是培养学生的工程实践能力、技术应用能力、系统设计能力和创新创业能力，而微电子技术实训是实践性教学的重要课程之一，在电子信息技术飞速发展的时代,微电子技术具有极强的渗透性和广阔的发展前景4,相关模块的训练可提高学生分析问题解决问题的能力，培养学生科学研究的兴趣,激发学生的创新意识。 　　 　　(3) 校企顺利接轨的需求。微电子技术相关企业对环境要求非常高，通常很难大批学生到生产现场实习参观,且为了防止企业核心技术泄密，_般实习也是走马观花，或者在专业实验室用一些基本实验来代替6]。工程训练中心以社会需求为向导，以实际工程为背景，以工程技术为主线M,建设微电子技术实训平台,具有独特的实践教学资源优势,有利于校企顺利接轨,为卓越工程师培养提供了有力保障。 　　 　　2建设目标 　　 　　微电子技术实训平台主要面向理工科专业学生，是一个特色鲜明的实训教学平台，也是产学研一体化的重要体现。它基于半导体物理实验室，按照企业超净车间标准,构建微电子工艺实训平台,净化等级达到万级。实训平台的定位目标是，培养学生较高的工程素质、较强的实验技能和动手实践能力。实训平台既可以满足一般性工程认识工程训练课程教学模块的需要,又可以满足学生完成半导体物理专业课程相关的实训项目和更高层次的创新性项目需要。 　　 　　3平台构成 　　 　　实训平台主要由：缓冲区、更衣室、风淋间、实训教学区、曝光区、气体间等区域构成,如图1所示。 　　 　　(1) 缓冲区。为保证实训区域内的洁净度,所有原物料进入实训教学区之前，需先在实训区外拆箱及拭净,并置于缓冲区30min后，方可进入。 　　 　　(2) 更衣室。为保证实训区域内的洁净度,保证实训过程中半导体材料不受人体产生的微粒（如皮屑和头发）污染，进入实训教学区域内的所有人员需更换防尘服,佩戴口罩和手套。防尘服采用不掉毛、防静电的纤维制成，可穿在日常衣服的外面。 　　 　　(3) 风淋间。为了减少由于人员、原料物进出所带来的大量尘埃粒子，经高效过滤器过滤后的洁净气流由可旋转喷嘴从各个方向喷射至人体、原料物上,有效而迅速清除尘埃粒子。 　　 　　(4) 实训教学区。为了提高实践教学的效果，该区配备了多媒体教学设备可同时进行理论教学和实践教学。 　　 　　(5) 曝光区。针对实训过程有特殊要求的工艺步骤,设置了黄色光源的曝光区，可进行光刻、匀胶等工艺。 　　 　　(6) 气体间。为保证实训教学区域安全，对实训过程中可能使用的气体进行单独存放。气体配有氮气、氧气、氨气、硅烷等。 　　 　　4功能分区 　　 　　在器件及工艺方面，配备了氧化扩散炉、光刻机、匀胶机、刻蚀机、纯水机及烘箱等设备，用于半导体材料的氧化、扩散、光刻、刻蚀等;在材料制备及参数测试方面,配备了四探针测试仪、CVD管式炉、磁控溅射沉积系统、真空镀膜机、退火炉、等离子化学气相沉积台等设备,用于方块电阻、电阻率、膜厚测试等。如图2所示。 　　 　　(1) 氧化扩散炉。半导体生产前工序的重要工艺设备之用于大规模集成电路、分立器件、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。本实训平台内采用的是水平扩散炉，有三个工艺炉管,控制系统采用的是日本岛电MR13操作系统。 　　 　　(2) 光刻机。又名紫外曝光机，用于制作图形工艺,将掩模版的图形转移到表面匀胶的硅片上，或将器件、电路结构临时“复制”到硅片上。 　　 　　(3) 匀胶机。半导体材料制备的基础工艺设备之用于在半导体材料表面均匀涂抹胶液。即在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，可通过调节转速及时间控制胶液的厚度。 　　 　　(4) 刻蚀机。刻蚀工艺的主要设备之一，用于半导体材料表面有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去,从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全—致的图形。本实训平台