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几种酚羟类药物份子印迹电化学传感器的制备和性能研究
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摘要
分子印迹技术(Molecular
Imprinting
定选择性的技术。分子印迹聚合物有预定性、特异识别性和实用性以及耐酸、碱、稳定
性好、耐高温等优点,因此在膜分离、固相萃取、传感技术等领域都有广泛的应用。分
子印迹聚合膜不仅有膜的性能还有聚合物的优点,因此分子印迹聚合膜的研究成为热
点。但传统分子印迹聚合膜的制法加入了交联剂,膜的传质速率较慢、模板洗脱困难、
膜厚度不易控制等缺点,严重阻碍了分子印迹技术发展。而电聚合法制备分子印迹聚合
膜制备简单、膜厚可控、膜与电极附着力强、重现性好等优点,大大提高了工作效率。
本文在对分子印迹技术和分子印迹电化学传感器概述的基础上。通过电聚合的方
法,以铅笔芯石墨电极作基质,以吡咯和邻苯二胺为复合功能单体,分别以水杨酸、对
羟基苯甲酸、抗坏血酸为目标分子,形成分子印迹共聚膜,构建了几种分子印迹电化学
传感器。对聚合膜电化学性能进行了表征,探讨了传感器各方面性能。具体工作如下:
(1)以水杨酸为目标分子,吡咯和邻苯二胺为复合单体,用循环伏安法在石墨电
极表面制备水杨酸分子印迹电化学传感器。通过方波伏安法和扫描电镜对分子印迹共聚
膜的电化学性质和表面形貌进行表征。对制备条件(洗脱时间、扫描圈数、pH值、模
板单体比列)进行了优化。在最佳条件下,通过方波伏安法对传感器的性能进行了测定,
结果显示在浓度为1×10。o_1×10。3mol/L时,峰电流和水杨酸浓度的负对数成线性关
系,最低检测限1.101×10。1
际样品的检测时回收率达到95.58%一96.13%,相对误差为3.43%。
(2)以羟基苯甲酸为目标分子,吡咯和邻苯二胺为复合功能单体,用循环伏安法
在石墨电极表面制备对羟基苯甲酸分子印迹电化学传感器。以铁氰化钾为电化学探针,
通过方波伏安法对分子印迹共聚膜的电化学性质进行研究,用SEM对印迹膜表面形貌
进行表征。探讨了扫描圈数、制备液的pH值、模板单体比例对传感器性能影响。在最
优条件下,探索传感器的性能,结果表明在1×10一一5×10。4mol/L范围内,峰电流和对
相对误差为3.43%。实验表明该传感器抗干扰能力强,使用寿命为长达35天。
(3)以抗坏血酸为目标分子,吡咯和邻苯二胺为复合单体,用循环伏安法在石墨
电极表面构建抗坏血酸分子印迹电化学传感器。以铁氰化钾为电化学分子探针,通过方
波伏安法对分子印迹共聚膜的电化学性质进行研究,用SEM对共聚膜表面形貌进行表
征。研究了制备液的pH值、扫描圈数、模板单体比例以及洗脱液的选择和洗脱时间对
mol
传感器性能影响。在最优条件下,探索传感器性能,结果表明在1×10-6—1×10-3
/L范围内,峰电流和抗坏血酸浓度的负对数呈良好的线性,最低检测限为2.63×10。7
95.71%一105.98%,相对误差为5.24%。
关键词:分子印迹,电化学传感器,共聚膜,电聚合,水杨酸,对羟基苯甲酸,抗坏血
酸
ABSTRACT
artificial and anovel for
Molecular designedsynthesizedtechnique
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