tisin纳米复合硬质涂层的制备与物性分析-preparation and physical properties analysis of tisin nano-composite hard coating.docx

TiSiN 纳米复合硬质涂层的制备与物性研究摘要TiN 涂 层 具 有 良 好 的 耐 磨 损 和 耐 腐 蚀 性 能 ， 是 目 前 广 泛 使 用 的 刀 具 涂 层 之 一 。 然 而 TiN 涂 层 硬 度 低 、 抗 高 温 氧 化 性 能 差 ， 在 TiN 涂 层 中 掺 入 Si 形成 TiSiN 纳米复合 结构 涂层可以 显著改善 TiN 涂层的性 能。但 传 统溅射方 法制备 的 TiSiN 涂层结 构疏松 、结合力 差，并 且沉 积温度高 ，限制 了其 进一步广 泛应用 。 近 年 来 兴 起 的 高 功 率 脉 冲 磁 控 溅 射 (HIPIMS)技术 具 有 离 化 率 高 、 离 子 能 量 高 的 特 点 ， 对 沉 积 涂 层 的 轰 击 作 用 强 ， 有 助 于 纳 米 复 合 结 构 的 形 成 ， 对 提 高 涂 层 性 能、降低 沉积温 度及 大 面积均 匀沉积 具有 优势。 本论文首先采用新型 HIPIMS 技术 沉积 TiN 涂层为出发点，优化偏压参数；在此基础上，通过基架自转与固定的调节方 式，研究了持续离子轰击对涂层的影响；其次，采用 HIPIMS 和 DCMS 两种技术沉积 TiSiN 涂层，对涂层的结构和性能做了系统对比；最后，我们系统研究了用 HIPIMS 制 备 TiSiN 涂层的过程中，不同 N2 流量对等离子特性、涂层成分、结构与力学性能的影 响。相关研究 结果为 HIPIMS 技术 制备纳 米复合涂 层的研 究及 工程化应 用提供 理 论基础和 技术指 导。研究结果表明，偏压对 HIPIMS 溅射制备 TiN 涂层结构和性能的影响显著。增大偏 压，TiN 涂层的沉积速率逐渐降低，涂层逐渐致密，表面粗糙度先减小后增加，在偏压为- 300 V 时表面最为光滑（Ra:10.1 nm）；择优取向由(111)晶向逐渐转变为(200)晶向；硬度 和弹性模量先增大后减小，与结合力变化趋势相一致，在偏压为-300V 时达到最高（17.4 GPa 和 263.8 GPa，结合力为 59 N）。其次，研究表明在持续离子轰击作用下能够获得性 能优异的 TiN 涂层，持续离子轰击作用可以使涂层的致密性增加，粗糙度降低，结晶性增 强，显著提高涂层的力学性能，同时其耐腐蚀性也有一定程度的改善。HIPIMS 技术在沉积 TiSiN 纳米复合涂层方面有显著优势。与 DCMS 技术相比， HIPIMS 技术沉积的 TiSiN 涂层具有更光滑的表面，更小的晶粒尺寸，更致密的结构，更 低的压应力和更高的硬度，更好的耐腐蚀性，并且其结合力和摩擦学性能明显优于 DCMS 沉积的 TiSiN 涂层。采用 HIPIMS 技术，在温度为 300 ℃，不同 N2 流量下制备的 TiSiN 涂层均具有非晶Si3N4 包裹纳米晶 TiN 复合结构，表面光滑，但涂层成分变化幅度较小。不同 N2 流量下，ITiSiN 涂层均呈(200)和(220)混合取向，随 N2 流量的增加，择优取向由(200)转变为(220)，TiN 晶粒尺寸逐渐增大，自由形式的 Si 完全氮化为非晶 Si3N4，TiSiN 涂层的硬度和弹性模 量随着 N2 流量的增加逐渐降低。当 N2 流量为 10 sccm 时，涂层的硬度和弹性模量最高GPa 和 329.03 GPa)。关键词：高功率脉冲磁控溅射；TiSiN；纳米复合；结构；力学性能；II -Preparation and properties of TiSiN nanocomposite hard coatingsAbstractTiN is a well established coating material for cutting applications because of its excellent wear resistance and corrosion resistance performance. But TiN coatings exhibit low hardness and poor oxidation resistance performance. The performance of TiN coatings can be significantly improved by incorporating Si to form TiSiN nanocomposite structure coatings. However, the traditional sputtered TiSiN coatings generally exhibit the loose structure, low adhesion and high deposition temperatu