纯相位绕射元件的设计.docVIP

PAGE 1PAGE 1純相位繞射元件設計Design Of Phase-only Diffractive Optical Elements林世穆* 賴聖棠Lin, Shi-Mu* Lai, Sheng-Tang 國立臺北科技大學光電技術研究所摘要繞射光學元件(DOE)，近來應用日漸廣泛，可應用於DVD讀寫頭，及光束整型、光束分離等。本文設計一光完全穿透而僅改變光波相位的純相位元件，採取疊代傅立業轉換法(Iterative Fourier Transform algorithm, IFT)，並採用步階量化的方式來產生二維的DOE元件。最後結合Pnoise法及二階段IFT法，對成像品質再做改善，其繞射效率()、動態範圍(DR)、訊號雜訊比(SNR)分別為75.43%、48.72%、2.39。關鍵詞 : 繞射光學元件、疊代傅立業轉換法。投稿受理時間：89年10月16日　　　　　　　　　　　　審查通過時間：89年12月17日ABSTRACTRecently, diffractive optical elements (DOE) have been applied to various aspects, such as the pick-up head of DVD, beam shaping and beam dividing, etc. We design a two-dimension phase-only DOE by using IFT and step quantization algorithm. Performance of our design can be evaluated by diffraction efficiency (), dynamic range (DR) and signal-to-noise ratio (SNR). Finally, we combine Pnoise and two-stage IFT algorithms to improve the diffraction pattern. The results of diffraction efficiency, dynamic range, and signal to noise are 75.43%, 48.72%, and 2.39, respectively.Keywords: diffractive optical element，IFT algorithm.壹、 前言 繞射光學元件(DOE)是近十餘年才發展出來的新興光學工藝。傳統光學元件是利用折射及反射的原理來設計，如透鏡、反射鏡，往往都只具備單一功能。繞射光學元件是利用光的繞射原理來設計，而且一片的DOE就可取代數片傳統光學元件的功能。繞射光學元件是一種相位型光學元件，利用表面厚度變化的浮雕結構(surface relief)來調制入射光波前，使得最後在繞射場能得到所設計的光場分布。它的功用可做徑向強度調制，對入射光的波前做改變，使得在像平面產生預先設計的圖形分布，例如光束整形(Beam shaping)；可做軸向強度調制，在給定的範圍內產生預設的強度分布，例如DVD、CD-ROM的讀寫頭；也可做為分波傳輸及分波聚焦的元件，例如白光入射後可產生彩色的點陣分布。繞射元件的主要製作方式有半導體製程(semiconductor processing)、直接刻畫(direct writing)、全像術(holography)、及鑽石切削(point diamond turning)等，本研究以半導體製程為準。 繞射元件的設計已發展許多種的演算法。1972年由Gerchberg及Saxton所發表的疊代傅立業轉換演算法[1]，此法利用快速傅立業轉換(FFT)，對光柵面及成像面作正、逆傅立業轉換，並修正每次所造成的相位差，直到成像面的光場強度分布能愈來愈趨近設計圖案的強度分布。本方法的優點是能很快的獲得不錯的繞射效率，但對於光點間的均勻度卻不能有效的控制。模擬退火法(Simulated Annealing algorithm)[2]，這是利用熱力學上熱處理的原理，有時候要得到特定的分子結晶必須將材料先加熱再降溫，所以模擬退火法的概念是不斷的提高虛擬溫度，避免僅得到區域的極小值，而得到全部區域的最小值。利用此種思維的運算法成像能達到最佳的狀態，但運算相當費時且效率不高。虛擬區域(Dummy Area)法[3]，基本上仍然是GS演算法，但它在訊號區外加一些初始光場為0的虛擬區域來做疊代的流程，此法能大幅的壓低訊號雜訊比，但是必須增加空間頻寬。二階段IFT法[4]，第一階段仍為IFT法，第二階段則根據階數的不同來執行不同的流程，用意在於希望不必增加