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薄液膜对纯镁腐蚀阳极过程的影响
第 2 1卷 第 2 期 腐蚀科学与防护技术 Vo l. 2 1 No. 2
2009年 3月 CO RRO S IO N SC IENCE A ND PRO TECT IO N TECHNOLO GY M ar. 2009
利用电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为
Ⅱ- 薄液膜对纯镁腐蚀阳极过程的影响
1 1, 2 1, 2 1, 2 1, 2 2, 3 3
陈崇木 , 张涛 , 邵亚薇 , 孟国哲 , 王福会 , 李晓刚 , 董超芳
1哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院 腐蚀与防护实验室, 哈尔滨 15000 1;
2中国科学院金属研究所 金属腐蚀与防护国家重点实验室 ,沈阳 1100 16;
3北京科技大学 腐蚀与防护中心, 北京 100083
摘要 :利用电化学噪声研究了纯镁在不同厚度薄液膜下的腐蚀行为. 结果表明:与本体溶液相比 ,薄液膜对纯镁腐
蚀的阳极过程有使点蚀的孕育速度减缓作用的同时还有使点蚀生长的概率增加的作用 ;薄液膜下纯镁表面产生的
亚稳态点蚀生长成稳态点蚀的概率比本体溶液下的大. 点蚀孕育速度比点蚀生长概率对阳极过程的影响更大 ;这
导致了薄液膜下纯镁腐蚀的阳极过程减缓.
关键词 :纯镁 ;薄液膜 ;腐蚀 ; 电化学噪声 ;随机分析
中图分类号 : TG172 3 文献标识码 : A 文章编号 : 1002 6495 (2009)
CO RRO S IO N O F PURE M A GNES IUM UND ER TH IN EL ECTROLY TE
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PRO CESS O F PURE M A GNES IUM CO RRO S IO N
1 1, 2 1, 2 1, 2
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1, 2 2 , 3 3
WAN G Fuhu i , L I X iaogang , DON G Chaofang
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(H a rbin E ng ineering Un ivers ity) , M in is try of Educa tion, H a rbin 15000 1; 2 S ta te Key L abora tory f o
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