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超疏水纳米二氧化硅表面的制备与性能研究-材料学专业论文
万方数据
万方数据
A Dissertation Submitted to Wuhan University of Technology for the Master’s Degree in Science
Study on the preparation and properties of super-hydrophobic silica surface
Master Candidate: Tian Tian Supervisor: Prof. Tao Haizheng Major: Materials
Wuhan University of Technology Wuhan,430070,Hubei,P.R.China
May 2015
独 创 性 声 明
本人声明,所呈交的论文是本人在导师指导下进行的研究工作及 取得的研究成果。尽我所知,除了文中特别加以标注和致谢的地方外, 论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含为获得 武汉理工大学或其他教育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一 同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说 明并表示了谢意。
签 名: 日 期:
学位论文使用授权书
本人完全了解武汉理工大学有关保留、使用学位论文的规定, 即学校有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电 子版,允许论文被查阅和借阅。本人承诺所提交的学位论文(含 电子学位论文)为答辩后经修改的最终定稿学位论文,并授权武 汉理工大学可以将本学位论文的全部内容编入有关数据库进行检 索,可以采用影印、缩印或其他复制手段保存或汇编本学位论文。 同时授权经武汉理工大学认可的国家有关机构或论文数据库使用 或收录本学位论文,并向社会公众提供信息服务。
(保密的论文在解密后应遵守此规定) 研究生(签名): 导师(签名): 日期:
中文摘要
中文摘要
超疏水表面由于在自清洁技术领域的应用如维持高空建筑玻璃与汽车玻璃
的清洁以及其他领域的应用如防水纺织品、涂层保护、通信天线等而备受关注。 超疏水表面有自清洁的作用,能减少能源和清洁水的使用,显著的降低化学清洁 剂对环境的污染。本文研究了超疏水表面的制备方法以及其性能,提供了简单低 成本的制备自清洁表面的方法。
以三甲基氯硅烷(TMCS)与六甲基二硅氮烷(HMDS)为疏水剂对溶胶进行改 性制备疏水薄膜。通过研究改性二氧化硅溶胶的反应条件,发现在 50℃下,反 应 5 小时,TMCS 改性硅溶胶制备得到的薄膜表面的接触角达到最大值,为 131.8°,当继续增加反应时间及改性温度时,由于硅醇的自聚反应,溶胶的羟基 数目减少,从而减小了能引入溶胶中疏水基团的数目,故制备得到的薄膜接触角 会减小。TMCS 由于位阻效应比 HMDS 小,同时反应机理也相对简单,所以制 备的薄膜接触角相对较大。改性 SiO2 制备的薄膜的透过率在可见光范围内都高 于 80%。但是当反应时间过长,改性温度过高时,则得不到均匀的薄膜。用改性 剂 TMCS 在二氧化硅膜表面直接进行疏水化处理,可以将薄膜的接触角进一步 提高到 150°以上。用氨水溶液及盐酸溶液对疏水表面进行腐蚀研究发现,盐酸 溶液对疏水性能的破坏性更大。
以氨水为催化剂水解正硅酸乙酯制备 SiO2 粉末,由于在制备过程中,纳米 粒径的胶粒会自发团聚成微米的大颗粒,可以得到纳米级粗糙度,微米级粒径的 纳/微二元结构的粉末,正是因为粉末具有这种特殊的结构,没有经过疏水化处 理的 SiO2 粉末表面就拥有 121°的接触角。此外用 TMCS 为改性剂对 SiO2 粉末表 面进行疏水化处理后,粉末表面接触角可以继续增加到 165°。用超声波对超疏 水粉末进行机械力分散,发现微米粒径的粉末只能被分散成亚微米的颗粒,不能 被分散成纳米的粒子。通过扫描电镜对粉末进行形貌观察以及结合接触角的研究 发现,粉末的粒径与表面接触角没有很大的联系。红外光谱对超疏水粉末的成分 分析表明粉末表面的羟基被疏水基团甲基取代。这说明粉末表面的疏水性能是由 低表面能与高粗糙度共同决定的。
关键词:超疏水表面,表面形貌,溶胶-凝胶法,粉末
I
Ab
Abstract
Superhydrophobic surface has attracted more and more attention due to the application of clean technology such as maintaining high architectural glass and automotive glass cleaning and consumer applications such as waterproof textile
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