螺旋波激发氢等离子体光谱诊断.PDFVIP

第17 卷 第10 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 17 ，No. 10 2005 年10 月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Oct. ，2005 文章编号： 1001-4322 （2005 ）10-1513-05 螺旋波激发氢等离子体光谱诊断* 1，2 2 1 1，2 1 2 王加扣 ， 吴卫东 ， 孙卫国 ， 邓红艳 ， 程新路 ， 唐永建 （1. 四川大学原子与分子物理研究所，四川成都610065 ； 2 . 中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四川绵阳621900 ） 摘 要： 利用螺旋波等离子体化学气相沉积（HWP-CVD ）技术，以氢气为反应气体产生等离子体。通过 采集氢的可见到紫外发射光谱，对等离子体进行了原位诊断，由氢Balmer 系分析得到了不同实验参数对激发 态氢原子相对密度的影响，通过对Fulcher 带的分析，得到实验参数对氢振动温度的影响。结果表明：低压氢等 离子体状态可借用日冕模型来诊断；激发态氢原子密度随入射功率增加而增加，随压强增加而减少，氢分子振 动温度随压强增加先增大后减小；电子温度和电子密度是低压氢等离子体状态变化的关键因素。 关键词： 等离子体诊断； 螺旋波等离子体化学气相沉积； Balmer 系； Fulcher 带 中图分类号： TL65 文献标识码： A ［1］ 在激光惯性约束聚变（ICF ）物理实验研究中，许多靶型都含有C H 薄膜 。C H 薄膜自1971 年被报 x 1 - x x 1 - x ［2 ］ 道 以来，由于其性能优异，一直引起人们的兴趣，人们对其生长机理、结构性质作了不少研究。C H 薄膜的 x 1 - x 制备方法主要有离子束辅助沉积［3 ］ ［4 ］ ［1］ 、离子溅射沉积 、低压等离子体化学气相沉积 （LPP-CVD ）等等。在 LPP-CVD 技术中，等离子体的状态是决定薄膜的生长速率、结构和品质的关键因素［1］。对于相同的原料气体 而言，不同的等离子体状态，所得到的薄膜是完全不相同的。在多数情况下，尤其是在制备 C H 薄膜时， x 1 - x LPP-CVD 的方法要用到大量的氢气。氢气分压值及其在等离子体中的状态是影响C H 薄膜基本性质的重 x 1 - x 要因素之一。通常，在LPP-C