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PAGE III
编号
本科生毕业设计
石英基底增透膜的设计与制备
Design and Preparation of Quartz substrate antireflection coating
学 生 姓 名
专 业
光电信息工程
学 号
090212307
指 导 教 师
学 院
光电工程学院
二〇一三年六月
摘 要
本文介绍了增透膜的镀膜工艺以及基本理论,并利用膜系设计软件设计了以JGS1石英玻璃为基底对635nm和1064nm处满足透射率要求的增透膜,选用ZrO2以及MgF2作为镀膜材料,采用电子束加热蒸发的方法进行薄膜制备,用石英晶体控制系统控制薄膜的物理厚度,在制备过程中努力改进工艺参数,提高控制精度。利用TXX-700型镀膜机镀制薄膜。最后,利用分光光度计对制备的增透膜进测试,测试结果透射率曲线满足技术要求。
关键词: 增透膜 膜系设计 电子束加热蒸发 石英晶体监
Abstract
This article describes the antireflection film coating process and the basic theory ,and use coating design software designed to JGS1 quartz glass as the base for the 635nm and 1064nm transmission rate to meet the requirements of two antireflection coating. ZrO2 and MgF2 used as coating materials, using electron beam heating evaporation method for thin films, with quartz control system the physical thickness of the film, in the preparation process improvement process parameters to improve the control precision, the use of TXX-700-type coating machine coating made film. Finally, the use of spectrophotometer antireflection coating into the prepared test results transmittance curve to meet the technical requirements.
Keywords: Antireflection coating; Coating design; Electron beam heating; Quartz crystal monito
目 录
TOC \o 1-3 \h \z \u HYPERLINK \l _Toc359875465 摘 要 Ⅰ
HYPERLINK \l _Toc359875466 Abstract Ⅱ
HYPERLINK \l _Toc359875467 第1章 绪 论 1
HYPERLINK \l _Toc359875468 1.1目的和意义 1
HYPERLINK \l _Toc359875469 1.2 增透膜 1
HYPERLINK \l _Toc359875470 1.3 增透膜发展历史与国内外研究现状 2
HYPERLINK \l _Toc359875471 第2章 膜系设计 2
HYPERLINK \l _Toc359875472 2.1 材料选择基本原则 2
HYPERLINK \l _Toc359875473 2.2 常用的镀膜材料 3
HYPERLINK \l _Toc359875474 2.3 膜系设计 4
HYPERLINK \l _Toc359875475 第3章 制备工艺 6
HYPERLINK \l _Toc359875476 3.1镀膜设备 6
HYPERLINK \l _Toc359875477 3.2镀膜系统工作原理 7
HYPERLINK \l _Toc359875478 3.2.1 真空系统原理 7
HYPERLINK \l _Toc359875479 3.2.2 电子束加热蒸发原理 7
HYPERLINK \l _Toc359875480 3.2.3 薄膜控制系统 8
HYPERLINK \l _Toc359875481 3.3主要工艺因素 10
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