铋对铜电解精炼中阴极铜沉积的微观结构的影响-电化学.PDF

第 3 卷　第 4 期 电化学 V o l. 3　N o. 4 1997 年 11 月 EL ECTROCH EM ISTR Y N ov. 1997 铋对铜电解精炼中阴极铜沉积的 微观结构的影响① 鲁道荣 　　林建新 (合肥工业大学化工学院　合肥　230009) 摘要　采用扫描电镜、 射线衍射仪、原子吸收光度计和电子探针等仪器, 研究了含有铋离 X 子的酸性硫酸铜电解液中阴极铜沉积的电结晶生长形态、结晶的晶面取向以及铜沉积层的化学组 成. 研究结果表明: 65 ℃时, 在通常的电流密度 = 200 · - 2 下电解, 铋不会在阴极沉积; 铋 i A mo l L ( ) ( ) 离子对铜沉积层的晶面取向 220 基本不影响, 电解液中存在高浓度铋离子时对 220 晶面生长起 促进作用, 对其它晶面生长起较强的抑制作用; 铋离子影响铜沉积的电结晶生长形态和铜沉积层 的晶胞尺寸. 关键词　铋, 铜沉积, 电结晶形态, 晶面反向, 晶胞尺寸 电解精炼是制取高纯度铜的主要方法. 电解时电解液中必然含有砷、锑、铋、铁、镍、锌、铅、 锡……等杂质, 其中砷、锑、铋的电极电势与铜的电极电势相近, 因而对阴极铜沉积影响较大. 一般铜矿含砷、锑量较高, 人们研究砷、锑对阴极铜沉积的影响较多, 而对于铋对铜沉积的影响 研究的很少. 我国江西铜带属于高铋铜矿, 电解液中含 ( ) 量高达 1. 0～ 1. 2 · - 3 , 已超 B i g dm 出国内外一些有关电解铜生产专著中提到的解液中杂质B i ( ) 含量的最大限度. 为了探讨该 高浓度B i3+ 对电解精炼中阴极铜沉积的影响, 以便对生产实践有所指导, 我们设制了只含单一 杂质B i3+ 的电解液体系, 采用实际电解厂的电解温度和电解电流密度, 对电解制取的铜沉积样 品进行了微观结构研究和组成分析, 以期从本质上说明B i3+ 对铜沉积的影响. 1　实验部分 电解液组成( · - 3 ) : ·5 165, 200, 0. 105, 0. 01, ( ) g dm CuSO 4 H 2O H 2 SO 4 KC l glue N H 2 2CS 0. 01和三种不同含量的B i (SO 4 ) 3 , 即 0. 169、0. 845 及 1. 69. 试剂均为分析纯, 溶液用二次蒸馏 水配制. 实验条件: 电极预处理: 阴极、阳极均用含铜量为 99. 98% 的纯铜片制取. 电解前用不同型 号的金相砂纸将电极表面磨光, 并用丙酮和稀硫酸溶液分别浸泡, 除去电极表面的油污和氧化 膜. 电解温度60 ±1 ℃, 电解电流密度200 · - 2 , 电解时间 18 . 所得阴极铜沉积样品 A m o l L h 经二次蒸馏水洗净后立即用氮气吹干. ① 本文收到,收到修改稿 3·96 · 电　化　学 1997