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磁控溅射TixAlxN薄膜的结构与摩擦学性能研究-摩擦学学报
第 29 卷 第 6 期 摩 擦 学 学 报 Vol. 29 No. 6
2009 年 11 月 Tribo logy Nov. , 2009
磁控溅射 T i 1 - x A l x N薄膜的结构
与摩擦学性能研究
张 晔 ,李长生 ,李学超
(江苏大学材料学院 摩擦学重点实验室 ,江苏 镇江 2 120 13)
摘 要 : 采用双靶反应磁控溅射的方法 ,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的 TiA lN 薄
膜. 用 SEM , A FM , ED S, XRD 等检测手段对薄膜的表面状态 ,如粗糙度 、化学成分及结构等进行了表征 ,采用 UM T -
3型多功能摩擦磨损试验机 ,在室温 、大气环境 、无润滑的条件下对不同成分 TiA lN 薄膜的摩擦学性能进行了评价.
试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在 Ti A l N 和 Ti A l N 的范围内发生变化 ;在 700 ℃经 1 h
0. 82 0. 18 0. 12 0. 88
的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了 TiN , Ti A lN , TiN A lN , TiA lN 等多种物相结构 ;表面粗糙度和形貌的
2 0. 30
试验结果表明了不同薄膜在不同位置的生长方式也不同; x 值在 0. 57及 0. 65 的薄膜具有高硬度 、低粗糙度 ,并在摩
擦过程中形成了摩擦转移膜 ,从而导致薄膜具有最佳的摩擦学性能.
关键词 : TiA lN 薄膜 ;反应磁控溅射 ;基体位置 ;摩擦 ;磨损
中图分类号 : TH 117. 3 文献标识码 : A 文章编号 : 1004 - 0595 (2009) 06 - 0518 - 08
工模具尤其是切削工具的使用寿命会对生产成 射过程中通过改变靶材的位置来获得大范围不同性
本产生重要的影响 ,随着表面工程技术的发展 ,在工 能的薄膜的方法可以有效地解决这个问题 [ 12 ] . 本文
模具表面沉积一层薄膜可有效提高其使用寿命 , 同 采用双靶反应溅射的方法制备了一系列不同成分的
时降低成本 [ 1 ] . 这种类型薄膜 ,一般应具有高硬度 , 薄膜并对其结构以及摩擦学性能进行了分析讨论.
低摩擦系数 , 良好的抗氧化性以及耐磨性等重要特
[ 2 ] 1 实验部分
点 . 传统的金属氮化物薄膜 , 以 TiN 为代表 , 由于
( ) [ 3 ]
其较高的硬度 大约 20 GPa 左右 , 能够有效地 1. 1 薄膜制备
提高材料 的耐磨性能和使用寿命 , 然而 由于在 薄膜制备使用 PSI型磁控溅射仪 , 采用 40Cr
500 ℃以上的抗氧化性能急剧下降使其应用范围受 ( 10 mm ×10 mm ×3 mm ) 方形基体 ,表面粗糙度 R a
μ
到限制. 近年来有研究表明 ,在 Ti - N 系统中添加
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