氧浓度对磁控溅射4ABC薄膜光学性能的影响-重庆师范大学学报.PDFVIP

! ##$ 年% 月 重庆师范大学学报（自然科学版） ’() ##$ 第* 卷 第% 期 +,-(’. +/ 01+(234(2 5+-6’. 7(489-:4;（5’;,-’. =49(9 ） ?+.) * 5+) % 氧浓度对磁控溅射@4A BCD 薄膜光学性能的影响! 孙彩芹，杨晓红，闫勇彦，张召涛 （重庆师范大学 物理与信息技术学院，重庆E###EF ） 摘要：在不同氧浓度下，采用直流反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了@4 掺杂的BC 薄膜并在EG# H 退火。用I D 射线衍射（IJK ）、分光光度计、台阶仪等对薄膜的结构和光学性质进行表征，分析了不同氧浓度对气敏薄膜的透光 率、微结构及光学带隙的影响。结果表明，氧浓度增大，沉积速率越慢，膜厚度减小，薄膜的平均晶粒尺寸增大，晶面 间距增大；透射率曲线随着氧浓度的增加逐渐向短波方向移动，表明薄膜的光学带隙宽度随氧浓度的增大而变大。 关键词：直流磁控溅射；氧浓度； @4A BCD 薄膜；微结构；透射率 中图分类号：@L% ) % 文献标识码：M! ! ! 文章编号：%*FN **$D（##$ ）#%N ##OGN #E ! ! 纳米BCD 是一种典型的变色材料，具有很高的 体，其 C 比例分别 占D#Q 、EGQ 、*#Q 、FGQ 和 变色效率，可制备各种变色装置和灵巧调光器，实现 $#Q ；系统的本底真空度为F R %# S E L’ ；溅射的工作 ［%ND ］ 对外部光源的智能控制 ；同时作为过渡金属化合 压强为%) E L’ ；电压为EO# ? 。溅射过程中保持混 物的BCD 也具有半导体特性，是一种优良的气敏材 合气体总流量为E# :6 ，工作电压不变，时间为 ［ENG ］ 料 。BCD 薄膜通过掺杂不同的金属元素后会明 $# 64( 。衬底采用G 66 R G 66 的玻璃。 显地改善其某些特性，如提高薄膜的变色效果及增 %) 样品测试 强其对气体的灵敏度和选择性等。 采用 TU@M0TU （日立）公司的7NE %## 双光束 BCD 薄膜掺杂一般都是向BCD 中掺入贵金属 紫外A 可见A 近红外分光光度计，对不同氧浓度的 离子或者是以BC 薄膜作衬底来溅射稀有金属。 @4A BC 膜从波长为E# V G## (6 的垂直入射光 D D 适度的掺杂为反应提供了更多的电子（或空穴），提 测量了透射率。7NE %## 分光光度计噪声（G## (6 高了电导率，改善其电学、光学性质。在以往的研究 处）W # ) ### %FG ，稳定性W # ) ### E MA 1 ，波长精度 中，掺@4 的BCD 薄膜能降低膜缺陷，延长膜的寿命 W # ) % (6 ，光度计精度W # ) ### FG MX: 。 ［*N$ ］ 采用岛津IJKN*##I 射线衍射仪表征晶相，衍 等，比纯的BCD 膜有更优越的光、电变色性能 。 以往的研究大都采用溶胶N凝胶法［%#N%%］来制备薄膜， 射角! 变化范围为G V *#Y ，步长为#) #GY ；通过型号 制备方法不同对薄膜的性质有很大影响。 为M6X4+: ILN% 台阶仪对薄膜的厚