硕士研究生开题报告.pptxVIP

开题报告;目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件;1、压印技术 压印技术是把一个刻有凹凸图案的印章盖在橡皮泥上， 然后再其上面留下与章相反的图案。 图章 活字印刷术 ;2、纳米压印技术 纳米压印技术是一种利用“图章”转印，实现批量纳米图形 复制的方法。在1995年由华裔科学家周郁最先提出，其原理是将 一个具有纳米图案的模板以机械力（高温、高压）在涂有高分子 材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案。并在1997年时利用该 技术首次实现图案特征小于10nm图形的压印制作，为后期纳米压 印技术奠定了基础。 相比较于紫外光刻、电子束光刻，纳米压印技术加工分辨率 只与模版图案的尺寸有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物 理限制。具有操作简单、极限分辨率高、重复性好等特点，并且在2003年底被国际半导体蓝图机构规划为下一代光刻工艺的关键技术。 ; 由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像等设 备的成本，因此，纳米压印光刻技术具有低成本、高 产出等经济优势。广泛应用于纳米电子元件、生物或 化学的硅片实验室、微流道装置，超高存储密度磁盘、 微光学元件等领域。 目前，纳米压印光刻技术已经可以制作线宽在2nm 以下的图案，超过了传统光刻技术达到的分辨率。 ; 一套纳米压印光刻设备包含：下压机构、承片台、精密定位