NI基纳米复合电镀镀层的性能研究.docxVIP

辽宁科技大学本科生专业选修课 现代表面分析检测方法 结课论文 论文名称： NI基纳米复合电镀镀层的性能研究 学生： 郑奇 院系名称： 材料与冶金学院 授课教师： 金辉 专业班级： 材料化学14-1 学 号： 120143201058 联系电话： 电子邮箱： 1119047408@qq. com NI基纳米复合电镀镀层的性能研究 摘要 :采用复合电镀技术通过向电镀溶液中加入平均粒度为90 nm的A12O3粉, 在Ni基材上制备了 Ni■纳米AI2O3复合镀层，应用扫描电镜(SEM)、X射线衍射 (EDAX)及透射电镜(TEM)等手段对复合镀层的表面形貌和结构进行了表征，并 通过试验考察了镀层的磨损性能。结果表明，纳米A12O3颗粒均匀分布在Ni纳 米晶中；纳米AI2O3颗粒的加入不仅细化了基体Ni的晶粒尺寸，而且还具有弥散 强化作用，从而提高了 Ni-AbCh纳米复合镀层的硬度和耐磨性能⑴。 关键i司：纳米A12O3:复合电镀；结构；形貌；耐磨性能 复合电镀技术具有设备简单、易操作、价格经济等优点，己广泛应用于航空、 汽车、电子等行业。复合电镀中常用的第二相固体颗粒有碳化物、氧化物和氮化 物如SiC、ZrO2. Ti02 SisNq等。大量试验结果表明，金属基复合镀层的性能不 仅与颗粒性质还与颗粒的含量、尺寸及分布有关。AI2O3颗粒具有特殊的机械和 化学特性，如高化学稳定性，高便度和高温耐磨性等，可作为金属基复合物的增 强第二相应用在微器件表面，从而提高器件的耐磨性能。普通微米粒由于颗粒粗 大，所得镀层表面粗糙，颗粒与基体金属材料界面结合较弱，镀层质量差。随着 纳米粉制备技术的不断发展，性能更优异的纳米复合镀层出现。本工作采用复合 屯镀技术，通过向普通电镀液屮加入平均粒度约为90 nm的AI2O3粒子，在Ni 基材上制备了 Ni■纳米AI2O3复合镀层并对其摩擦磨损性能进行了研究山。 —.试验 选用尺寸为15 mmX 10 mm X2 mm的电解Ni片为基材，同一成分的Ni 片为电镀时的阳极。试样用水砂纸磨至800号后经酒精、超声波清洗。镀液为弱 酸性镀液，pH 值为 5.5-6.0,镀液配方为:150.0g/LNiS04 - 7H20, 15.0g/L NH4C1, 15.0 g/LH3B04, 0.1g/LC12H25OSO3Nao纳米AI2O3粉直接加入镀液，为保证纳米 粉颗粒的悬浮，在复合电镀过程中施以磁力搅拌。镀液温度为35°C,电流密度 3A/dm2,施镀时间2h,镀层厚约为50umo显微硬度测量在MHV2000维氏数 字显微硬度计上进行，载荷为0.5N,加载吋间为10S,取10个点的平均值为最 终的硬度值。摩擦磨损试验在CJS111A型摩擦磨损实验机上进行，SisN。磨球的 尺寸为02mm、转速200r/min载荷150 N、摩擦半径为2.5 mm,时间1 h,总 路程约为188.4 m,选用感量为10?5g的天平进行分析。采用(Rigaku)D/max —2500pc型x射线衍射仪(EDAX)磨损量和Camscan MX2600扫描电子显微镜(SEM) 对磨损前后的复合镀层进行综合分析。与此同时选用相同电镀条件下获得的单 Ni镀层作对比试验。 二.结果与讨论 1.复合镀层的结构 (?)承Nil#层单Ni镀层和Ni■纳米AI2O3复合镀层的表面SEM形貌见图k从图1可知， 单Ni镀层具有典型的金字塔结构，但随着纳米AI2O3颗粒的加入，基体Ni的晶 粒尺寸明显细化，同时向半球形转变。在电沉积Ni镀层的过程屮，Ni沿一定的 方向择优长大，但是随着AI2O3粒子复合，AI2O3粒子作为Ni沉积吋的第二相导 异质形核质点，细化了基体Ni晶粒。EDAX分析表明，Ni■纳米AI2O3复合镀层 中AI2O3含量为7%-9%,而图lb中自亮颗粒即为富A1的AI2O3颗粒。由此可见 AbO?纳米颗粒在复合镀层中存在局部团聚现象，这与纳米具有很强的团聚特性 有关。 (?)承Nil#层 图1镀层表面SEM形貌 单Ni镀层及复合涂镀层的TEM形貌见图2。从图2a可见，单Ni镀层中 Ni的平均晶粒尺寸小于lOOnnK从图2b可知，白色的圆形颗粒为纳米A12O3 粒子。除了局部存在的团聚状AI2O3纳米粒子外，细小的纳米A1粒子弥散分布 在晶粒尺寸在15-60 nm的Ni晶粒中。图1和图2的结果表明在电沉积Ni镀层 的过程，Ni沿一定的方向择优长大，但随着AI2O3粒子的复合，AbO?粒子作为 Ni沉积时的第二相异质形核质点，细化了基体Ni晶粒，从而产生明显的细化晶 粒的作用⑴。 （A （ b） 級合■胆的衣面形毅 图2镀层表面TEM形貌 2.复合镀层的摩擦学性能 单Ni镀层和Ni■纳米A12O3