纳米结构硅研究的发展动态-华南师范大学学报.PDF

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2019-04-12 发布于天津
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纳米结构硅研究的发展动态-华南师范大学学报

() Journal of South China Normal University (Natural Science) 1998( 1) : 106~ 111 * 1) 2) 陈昌武王卫乡 1) , 2) 510631 : . ( ) ( ) , , , , E op t , / , g . ; ; , O482. 3; Q127.2 , , . ( 1~ 30nm) , ( 3 - n ) ; : , , [ 1~ 15] . , . , . 1 . , . 1. 1 (PECVD) [ 1] PECVD , SiH ,H , . 4 2 : 1. 33Pa, 173~ 200Pa, Ts = 300 , SiH / ( SiH + H ) = 0. 6% ~ 1.0% . 4 4 2 r 1 SiH [ SiH ] Si( S) + n( H) 4 n r 2 SiH [ SiH ] ( n = 0, 1, 2, 3) , Si H 4 n ! ∀ , r , r . ( SiH / SiH + H ) 1 2 4 4 2 * : 10%) , r 1 r 2, (- Si) . 5% , [H] , ( nc - Si) . nc - Si , , : # SiH4; ∃ . nc- Si 3~ 5 nm. 1.2 ( LICVD) [ 2] ( ) , , ( ) , , , . nc- Si, CO ( 10. 6m) SiH + Ar SiH + H . 2 4 4 2 Si H hv S iH 4 S i ( g ) + 2H , Si . , 2 , . : 950W/ cm , SiH 4