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微流控芯片 Lab on a Chip 夏赟 M200771234 主要内容 微流控芯片的概述 微流控芯片的关键技术 微流控芯片的应用 微流控芯片的定义 微流控芯片实验室是指把生物和化学等领域 中所涉及的样品制备，生物与化学反应，分离，检测等基本操作单元集成或基本集成到一块几平方厘米的芯片上,由微通道形成网络,以可控流体贯穿整个系统用以完成不同的生物或化学反应过程,并对其产物进行分析的一种技术。 微流控芯片和生物芯片 微流控芯片实验室以微流控技术为基础，它有别于另一类以静态亲和杂交技术为核心的微孔板芯片，后者通常被国内的大众媒体称之为 “生物芯片” ，以DNA芯片为典型代表。从某种意义上说，微孔板芯片可以被看作是微流控芯片中操作单元只有一种，且流体的速度为零时的特例。 微流控芯片和生物芯片 微流控芯片实验室与系统生物学 按照现代生物学的观点，生物体是一个系统、一个网络，人们研究的不仅是其中某一个静态的“组学”，更重要的是要考虑系统中各个单元之间各种组成的动态的相互联系及相互作用，因此，不仅要测定关于生物体同一参数在不同时刻的变化，更要注意不同参数在同一时刻的数值。 微流控芯片多种单元技术在微型平台上的灵活组合和规模集成的特点使其成为系统生物学研究的主要平台之一。 微流控芯片的特点 微流控分析系统具有极高的效率 微流控分析的试样与试剂消耗少 微尺寸便于集成 制作耗材少，降低成本 微流控芯片的关键技术 芯片的材料和芯片制造技术 微流控芯片进样技术 微流控芯片检测技术 微流控芯片的材料 硅（作为微模材料和功能单元的材料） 石英和玻璃（介电、透光、耐腐蚀） 硬质高聚物（易加工、价廉） PMMA聚甲基丙烯酸甲酯 弹性聚合物（易加工、价廉） PDMS聚二甲基硅氧烷 光敏聚合物（可进行高深宽比加工） SU-8可作光胶，也可直接做微结构材料 玻璃微流控芯片的制作 (a)镀牺牲层（氧化、化学气相沉积、蒸发、溅射） 涂覆光胶（甩胶机） (b)光刻（预烘、曝光、显影、烘干） (c)用显影的方法除去经曝光的光胶 (d)(e)蚀刻（湿法刻蚀、干法刻蚀） (f)去光胶、去牺牲层 (g)键合 加工技术——光刻技术 通过三个主要步骤可以将光刻掩膜上的微流控芯片设计图案转移到待加工基片表面： (1)涂覆光胶层：高速(500-5000r/min)旋转的甩胶机 (2)曝光（正负光胶）：接触式，接近式，投影式 (3)显影：除去经曝光的光胶（正光胶）或未经曝光的光胶（负光胶） 加工技术——刻蚀技术 在基片刻蚀时，刻蚀剂必须对牺牲层和被刻蚀的材料有足够的选择性。根据所选刻蚀剂的不同，可分为两大类： 湿法刻蚀(wet etching)：刻蚀剂为水溶液（KOH、EDP等） 干法刻蚀(dry etching)：刻蚀剂为等离子体（SF6等） 从产生通道截面形状分类，刻蚀又分为： 各向同性（纵向横向刻蚀速率相同） 各向异性（纵向刻蚀速率远大于横向刻蚀速率） 大多数湿法刻蚀是不容易控制的各向同性刻蚀，而干法刻蚀能实现各向异性刻蚀。 高分子聚合物基片上微通道的加工 模塑法（在阳模上浇注液态高分子材料） 热压法（用阳模印制软化的聚合物） 激光烧蚀法（在基片上发生激光溅射） LIGA技术（X光深层光刻、微电铸、微复制）用于高深宽比的聚合物芯片制作。 加工技术——软光刻 软光刻技术的核心是图形转移元件－弹性印章。方法有微接触印刷法和有机聚合物模塑法（其中包括毛细微模塑法，转移微模塑法，微复制模塑法等）。 微流控芯片的进样技术 微流控芯片的进样方法对其发展有重要作用，这是因为： （1）芯片毛细管电泳的分离通道短，分离速度快，分子扩散对理论塔板高度的贡献相对较小，在这种情况下，进样速度和进试样带长度对分离效率影响很大 （2）常规毛细管电泳中常用的压力，虹吸和电动进样法大多需要复杂的机械操作，与芯片毛细管电泳的微型化、集成化、自动化的目标难以相容。 T形进样 门控进样（1994，Jacobson） 十字或双T形进样（1993，Effenhauser） 夹流进样（1994，Jacobson） 窄试样通道进样（2001，Zhang） 多T形进样（ 2002，Fu ）－基于体积 双十字进样（ 2003，Fu ） 光门进样（2000，Lapos）－基于时间 微流控芯片检测技术 微流控芯片检测器的作用 测定被分析样品经微流控分析芯片系统分离或处理后有关组分的组成及其含量； 检测器的总体性能将影响整个微流控芯片分析系统的检出限、检测速度、适用范围、体积等指标。 微流控芯片检测器的性能要求 更高的灵敏度和信噪比 更快的响应速度: 由于芯片上的通道一般均较短，许多混合及分