基底与Cu掺杂对ZnO微结构和光学性质的影响-凝聚态物理专业论文.docxVIP

西北师范大学硕士学位论文 西北师范大学硕士学位论文 参考文献 30 第四章 Cu 掺杂浓度对 ZnO/PS 微结构和光学性质的影响 31 4.1 Cu 掺杂浓度对 ZnO/PS 微结构的影响 31 4.2 Cu 掺杂浓度对 ZnO/PS 光学性质的影响 35 4.2.1 Cu 掺杂浓度对 ZnO/PS 光致发光的影响 35 4.2.2 Cu 掺杂浓度对光吸收谱的影响 38 4.2.3 Cu 掺杂浓度对拉曼散射谱的影响 39 4.3 本章小结 41 参考文献 42 第五章 基底与 Cu 掺杂对 ZnO 微结构和光学性质的影响 44 5.1 基底与 Cu 掺杂对 ZnO 微结构的影响 44 5.2 基底与 Cu 掺杂对 ZnO 光学性质的影响 47 5.2.1 傅里叶变换红外收光谱对 ZnO/PS 和 ZnO:Cu/PS 的分析 47 拉曼散射光谱对 ZnO/Si 和 ZnO:Cu/Si 的分析 48 紫外-可见光分光光度计对 ZnO/glass 和 ZnO:Cu/glass 的分析 49 5.2.4 基底与 Cu 掺杂对光致发光谱的影响分析 50 5.3 本章小结 52 参考文献 54 第六章 总结和展望 56 6.1 总结 56 6.2 展望 57 附录：攻读硕士学位期间发表的论文VI 致 谢VII I I 摘要 多孔硅是一种多功能半导体材料，氧化锌具有新异的光学、电学及气敏特性。 本文采用电化学腐蚀法以p型 (100)单晶硅为原材料制备了多孔硅样品，然后以多 孔硅，硅和玻璃为衬底采用射频反应磁控溅射技术在不同Cu掺杂浓度下制备了氧 化锌薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、紫外分光光度计、荧光分光光度计、 拉曼散射谱和傅里叶转换红外光谱等几种表征技术研究了基底与Cu掺杂对氧化锌 薄膜微结构及光学特性的影响。研究的主要方向有三个方面：其一，探索机械性 能适合做衬底的发光特性较好的PS制备流程和参数；其二，Cu掺杂浓度对ZnO/PS 纳米复合体系的微结构和光学性质的影响；其三，基底与Cu掺杂对ZnO 微结构和 光学性质的影响。对应的主要发现如下： 1、找到机械性能适合做衬底的发光特性较好的 PS 制备流程和参数：将电阻 率为 8~13Ω·cm，厚度为 390±10μm 的 P 型(100)单晶硅片(单面抛光)先用酸性溶液 除去有机污染物和表面氧化层，再进行丙酮，酒精及去离子水超声波清洗 15 min， 交替清洗 3 次，清洗完毕用干燥的 N2 气吹干后迅速放入真空室，使用射频磁控溅 射技术在硅片背面沉积 Al 电极薄膜，480℃真空退火 1 小时以形成良好的欧姆接 触。电化学腐蚀 法制备多孔硅 最后确定的参数为：电解 液的体积配比浓度 为 HF(40%):C2H5OH(99. 7%)=1:1，腐蚀电流密度为 15 mA·cm-2，腐蚀时间为 10 min。 电化学腐蚀后的多孔硅用去离子水冲洗干净，N2 气吹干。 2、具有高度C轴择优取向的ZnO/PS和ZnO:Cu/PS纳米复合薄膜在室温下成功 地沉积在了PS衬底上。沉积的方法是射频反应磁控溅射法。X射线衍射谱的测试 分析表明Cu掺杂后出现了一些比较弱的其它衍射峰(100)，(101)，(102)和(110)。 随着Cu掺杂浓度的增加，(002)衍射峰的强度先减小后增强。ZnO:Cu/PS纳米复合 薄膜的残余应力由压应力变成了张应力。扫描电子显微镜发现Cu掺杂以后表面形 貌变得粗糙，晶粒由球形变为椭球形。利用光学吸收谱计算了样品的光学带隙值， 发现Cu掺杂后光学带隙值红移，我们把它归因于Cu掺杂后ZnO 晶格内部载流子浓 度的减小。通过把源于ZnO 的蓝绿光和源于PS的红橙光相结合，我们得到了从350 到800 nm 较宽的发光带，这有助于发白光二极管的研究。利用高斯分解的方法， 讨论了Cu掺杂对ZnO/PS纳米复合薄膜光致发光谱影响。拉曼散射谱揭示了PS的特 征峰和适量的Cu掺杂能促进多声子过程。 3、通过射频磁控溅射法 ZnO 和 ZnO:Cu 薄膜在常温下成功地沉积在 PS，Si 和玻璃衬底上。X 射线测试分析表明 ZnO 和 ZnO:Cu 薄膜具有 C 轴择优取向，晶 I II 粒尺寸的范围 11.4~17.6 nm，不同衬底上的 ZnO 和 ZnO:Cu 薄膜均为压应力。傅 里叶转换红外谱的 1067 cm- 1 吸收峰是横向光学膜的非对称振动，证实了 Si-O-Si 伸缩振动。拉曼散射谱中 E2 (high) 模进一步证实了样品中的残余应力为压应力。 光学透射和吸收谱说明了 Cu 掺杂以后光学带隙值朝长波方向移动。光致发光谱显 示沉积在 Si 和玻璃衬底上的 ZnO 和