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第34卷第3期 光学仪器 VOL34。No．3
2012年6月 0fynCALINSTRUMENTS June，2012
文章编号：1005—5630(2012)03一0043一06
用两维扩展光源像差理论优化XUV单色仪设计*
盛翠园，吕丽军
(上海大学精密机械工程系，上海200072)
摘要：为了给反射镜和光栅组成的光学系统提供一种有效的优化方法，应用吕等提出的两维扩
展光源平面对称光学系统的像差理论，Namioka等定义的XUV(极紫外)光栅仪器的评价函数
和改进的遗传算法发展了优化设计程序，对一XUV单色仪光学系统进行优化。通过光线追迹
程序Shadow进行数值成像计算来验证优化结果，并和相关参考文献中的结果进行比较。比较
结果表明应用的评价函数适用于两维扩展光源的XUV单色仪光学系统优化设计。
关键词：像差；XUV单色仪；评价函数；优化设计
中图分类号：TH744．1文献标识码：A
ofthe ofXUVmonochromatorwiththe
Optimizationdesign
aberrationoftwo-dimensionextendedsource
theory
SHENG
Cuiyil,a7l，LVLOun
ofPrecisionMechanism 200072，China)
(Department Engliaeermg，ShanghaiUniversity，Shanghai
Abstract：Inorderto anefficient methodfor of
provide optimization opticalsystemcomposed
reflectorand is withtheaberrationOf
optimizationprogramdeveloped
grating，all theoryplane-
oftwo-dimensionextended Lvet merit
symmetric al，the
opticalsystems source，proposedby
functionofXUV(extreme instrumentdefinedNamiokaeta1andthe
ultra-violet)grating by
iSusedto anXUV numerical
genetic optimize monochromator．The
improvedalgorithm，which
calculationsof aremadewith resultswith
shadow．The
imaging ray-tracingprogram imaging
the fromboththe
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