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高折射率材料吸收特性对193+nm+HfO2SiO2Y2O3SiO2Al2O3SiO2多层膜反射特性的影响
多层膜反射特性
第3l卷第12期2004年12月
中国激光
V01.3l,No.12December。2004
CHINESEJOURNALOFLASERS
文章编号:0258—7025(2004)12~1469一04
高折射率材料吸收特性对193nmHf02/Si02,Y203/Si02,A1203/Si02多层膜反射特性的影响
袁景梅,汤兆胜,易
葵,邵建达,范正修
(中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心,上海201800)
摘要由单层Hf0。,Si0。,Y:0。,Al:O。膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出Hf0。/Si0:,Yz0。/
siO。,Al:O。/sj0。的193nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行镀制。由分光光度计测量样品的透
射率和绝对反射率,求出了各种膜层的吸收曲线。结果发现Hfoz/siOz,A1:0。/Sioz反射率实验结果与理论结果吻合得很好,而Y。0。/si0。的理论曲线偏高。通过模拟Y。O。/si0。的反射率曲线发现Yz0。的消光系数远大于由单层膜实验得出的结果。这说明Y。0。膜层的吸收特性与薄膜的制备工艺密切相关。关键词
薄膜;折射率;消光系数;吸收系数
0484.4
中图分类号文献标识码
A
EffectofAbsorptionCharactertotheReflectanceof193nm
Y203/Si02andA12
Hf02/Si02,
03/Si02Multilayer
ThinFilms
YUANJing—mei,TANGZhao—sheng,YIKui,SHAOJian—da,FANZheng—xiu
(RP5Pnrc^n他d
DPugfo户m已竹£CP札£er,brO户ficn£T^i竹Fi£,nCon≠i扎gs,S^口,29^ⅡiI扎s£i£“£Po,
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