镁合金表面磁控溅射离子镀碳膜工艺及性能研究-材料科学与工程专业毕业论文.docxVIP

万方数据 万方数据 上海交通大学 学位论文原创性声明 本人郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下， 独立进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外，本 论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果。对本 文的研究做出重要贡献的个人和集体，均已在文中以明确方式标明。 本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。 学位论文作者签名： 日期： 年 月 日 上海交通大学 学位论文版权使用授权书 本学位论文作者完全了解学校有关保留、使用学位论文的规 定，同意学校保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子 版，允许论文被查阅和借阅。本人授权上海交通大学可以将本学位论 文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印 或扫描等复制手段保存和汇编本学位论文。 保密□，在 年解密后适用本授权书。 本学位论文属于 不保密□。 （请在以上方框内打“√”） 学位论文作者签名： 指导教师签名： 日期： 年 月 日 日期： 年 月 日 上海交通大学硕士学位论文 上海交通大学硕士学位论文 镁合金表面磁控溅射离子镀碳膜工艺及性能研究 摘 要 Mg-Gd-Y-Zr 系列稀土镁合金由于其优良的高温强度以及抗蠕变 性能，得到了广泛的研究与应用。然而其较差的耐腐蚀和耐磨损性能 极大地限制了发展，表面改性是改善稀土镁合金耐蚀耐磨性能最有效 的方式之一。 本文采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术，在 GW83 镁合金表 面制备碳膜来达到提高其耐蚀耐磨性能的目的。同时，对磁控溅射离 子镀沉积碳膜的工艺进行了系统研究，主要分析了清理偏压、基体负 偏压、靶电流、不同过渡层对碳膜的表面形貌、硬度及弹性模量、膜 基结合强度、耐蚀性、耐磨性等的影响，并获得了最佳制备工艺。 实验结果表明，镀膜前施加合适的清理偏压可以有效清理基体表 面，从而减少薄膜缺陷，提高薄膜致密度。在镀膜过程中给基体施加 负偏压，能增强离子对薄膜的轰击作用，使得薄膜致密度及与基体的 结合强度提高，从而其耐蚀性得到提高；但过大的基体偏压会造成对 基体过高的能量轰击，不利于薄膜致密度及耐蚀性的提高。合适的靶 电流可以对薄膜形成适当的正离子轰击，且能保持合适的沉积速率， 从而形成孔隙率低并与基体结合良好的膜层。本文中基体偏压为-40 V 靶电流为 3.5 A 下制备的 C/Al 薄膜综合性能最佳，硬度及弹性模量分 别为 880.9 HV 和 68.8 GPa，在 3.5 wt% NaCl 溶液中的腐蚀电位为-1624 mV，腐蚀电流密度为 198 μA cm-2。2 N，1800 s 磨损环境下磨痕宽度 为 0.93 mm。 相比于 C/Al、C/Ti 膜层，C/Cr 膜层具有更高的硬度及耐磨性能， 这是由于高硬度的 Cr 作为金属过渡层时可以有效提高基体承载能力。 I C/Al 膜层具有更高的膜基结合强度及耐腐蚀性能，这是由于 Al 的物 理性能(如硬度、弹性模量)与 Mg 最接近，Al 易于沉积在镁合金上， 同时 Al 与 Mg 电极电位接近，减小了电偶腐蚀的影响。 将磁控溅射与化学镀相结合，制备了致密均匀，表面孔隙率极低 的 Ni+C 复合膜层，其表面碳层为典型的类石墨结构。在复合膜层中， 表面碳层与 Ni 层结合良好，在 3.5 wt% NaCl 溶液中的腐蚀电位由 GW83 镁合金的-1673 mV 正移到-1372 mV，腐蚀电流密度由 90 μA cm-2 降至 11 μA cm-2，显著提高了基体的耐腐蚀性能。此外 Ni+C 复合 膜层在磨损测试时延长了基体镁合金的磨损寿命。这是由于较厚的 Ni 中间层的加入，不仅提高了膜层致密度，降低了孔隙率；而且起到了 过渡各层硬度的作用，降低了膜层内应力，提高了膜层的承载能力， 从而提高了复合膜层的耐蚀耐磨性能。 关键词：镁合金，磁控溅射离子镀，碳膜，耐蚀性，耐磨性 II PROCESS AND PROPERTIES OF CARBON COATING DEPOSITED ON MAGNESIUM ALLOY BY MAGNETRON SPUTTER ION PLATING ABSTRACT Recently, Mg-Gd-Y-Zr magnesium alloys are intensively investigated due to their excellent properties, such as high strength at elevated temperature and good creep resistance. However, they have some drawbacks such as poor corrosion and wear resistance, which greatly l