铝及其合金的高压阳极沉积工艺研究-有色金属冶金专业毕业论文.docxVIP

昆明理J人学／i,)i 昆明理J人学／i,)i i．论迁 摘璺 摘 要 本论文在分析了国内外文献的基础ji，对高电胍阳极沉积丁艺技术的研究现 状、1二艺特点、应用前景及研究意义进行r综述，并对阳极沉积所涉及的理论耀 础知识进行’r概括。 在实验研究部分中，分别做r纯铝在复合有机酸·f]的高压Ⅲ檄沉积T艺实验 及LYl2铝合金在复合有机酸+Na。wO。+抑弧剂中的高压、大电流阳极沉积1_=艺实 验。差要研究了电解液成分、峰值电流密度及氧化时问对成膜T艺及膜层性能的 影响，通过实验找出了能制得优异膜层的条件。对4i同实验条件卜-制备的沉积膜 层进行r膜层的x射线衍射、扫描电镜及电子能谱分析，并在以上基础上仞步探 讨了铝及其合金的高电压、大电流阳极沉积_[艺的机理。 实验研究和理论分析表明，对纯铝在混合有机酸中的高压、大I电流阳极沉积 工艺而言，在复合酸浓度为1～59／L，初始电流密度为12A／din2到24A／dm2，氧化 时间大于20分钟但小于50分钟的范围内均能形成光滑、均匀致密且具有较高显 微硬度及厚度的膜层。低浓度的复合酸浓度有利于快速生成高硬度的膜层，当酸 浓度增大时，所需氧化时间延长，同时不利于生成高硬度的膜层。适当增加峰值 电流密度，有利于提高所得膜层硬度。但峰值电流密度增高，对膜层的溶解也加 剧，最高峰值电流密度不应超过24A／din2。随氧化时间的延长，膜层硬度提高， 膜厚也增加，但氧化时间超过40分钟以后，膜层厚度的增加速度减慢，-)．t-}1{有降 低的趋势。对LYl2铝合金的高压、大电流阳极沉积而言，电解液中的复合酸是￡ 要成膜物质，NazWO。所起的作用是均匀膜层表而的电流分布，添加剂1i要作刚就 是抑制弧光的产乍。最佳的电解液组成为：混合有机酸4～89／I。，№!w()。(1．2～ u．39／L。，添)J rl剂0．2～0．：_lg／l。较高的初始电流密度囱|利于获得显微硬度较『：o的膜 层，同时膜层厚度也随着增人，但当初始电流密度人于I 7．HA／dml以J—i，氧化时问 较短就被击穿，阕而膜层厚度反而降低。较有利的电流密度应摔制神：㈨：卜一 9．2．2A／dm2之间。随氧化时间的延长，膜层显微硬度及厚度都增大，们当氧化时f．J 夫于4()分钟后，膜层厚度增加缓慢。甚至有降低的趋势。最件氧化时IHjj市打]30～ 4(1分钟之间。 纯铝在复合酸中形成膜层的XRD显示，膜层罕非晶态结构，其t}t的物,ht{：要 宵A1(O}I)。、A100tl及Al：0，等。表面的sEM显示，何许彩小孔及【六f内心力m J易成的 裂纹，这些部位形成活性点，沉积反应优先n：此发忙。截而的跳Ⅵ显永，；填疑是 7 铝及其合金的高压鼬极沉积1．艺研究单层非多孔层结构，由许多层的菱形柱状物以互相交错的方式从基体一氲堆积到 铝及其合金的高压鼬极沉积1．艺研究 单层非多孔层结构，由许多层的菱形柱状物以互相交错的方式从基体一氲堆积到 膜层表面，膜层1j基体的界面上氧化膜与基体肇犬习二交错，紧密相连，仃牢崮的 结合形式。电子能谱分析表明，膜层主要元素Al及0的原予比随成膜趋于完整而 增大。LYl2铝合金的高压、火电流阳极沉积工艺形成膜层所做的XRD图显示除 了包含纯铝在复合酸中形成膜层的化合物组成以外，还可能含有CuAl 10-及 Al。(wO。)。。膜层表面的SEM显示，同样存在作为成膜反应活性点的裂纹及,J,4L，但 孔径却比纯铝在复合酸中形成的孔径要大，同时表丽的孔隙率要低的多，较少的 孔隙率对膜层具有较高的硬度起了一定的贡献。截面的SEM显示，【。Y1 2合金所形 成的膜层是双层结构，内层厚度大于外层，但外层并不像常规阳极氧化膜的多孔 层。内层与基体、外层与内层之间呈犬牙交错，紧密相连，有牢固的结合形式。 膜层的电子能谱分析表明，膜层主要元素A1及0的原子比同纯铝在复合酸中形成 的膜层一样，随成膜趋于完整而增大。 对机理的探讨分析表明，膜层是由于在场致溶解和化学溶解作用下，氧化工 件溶解产生的Al”与吸附及电场吸引到工件表面的阴离子发生水合、水解及络合配 位反应，并在电场作用、焦耳热作用及应力作用等的综合作用下发生膜层的脱水 反应及电流在膜层中的传导。同时膜层的沉积优先在活性点上发生，由此一层一 层的交错堆积直至一定的厚度，以致表面的电场强度很弱不能吸引阴离子在表面 沉积为止，此时阳极膜层的溶解占优势，成膜速度也缓慢下来。 关健词：阳极沉积 铝及铝合金 高电压 大电流 昆明理I大学硕{。硷殳 昆明理I大学硕{。硷殳 摘要 ABSTRACll Research actU3．1 i t y，technologi e characteri sti e， appI icatioil rereground and res