聚酰亚胺正性光刻胶材料的制备及性能研究综述.pdf

上 海 航 天 　 　 　 １３ ６ Ａ 第 卷 年第 期 ＥＲＯＳＰＡＣＥ ＳＨＡＮＧＨＡＩ ３４ ２０１７ ３ 　 文章编号： １ （ ） ０ １ ００６ ６３０２０１７ ０３ １３６ ２ １ － － － 聚酰亚胺正性光刻胶材料的制备及性能研究综述 １ １ ， 郑 凤 路庆华 　 （ ， ） 上海交通大学化学化工学院 上海 ２００２４０ ： （ ） （ ） （ ， ） 摘 要 对聚酰亚胺 ＰＩ＋二叠氮萘醌 ＤＮＱ 型及聚酰亚胺前驱体 聚酰胺酸 ＰＡＡ ＋ＤＮＱ 型正性光刻胶材 　 　 　 。 。 ： 料的研究成果进行了综述 讨论了这两种正性光刻胶材料中成膜剂的设计和制备方法 其中 前者在 ＰＡＡ 主链 ， ； ， ， 中引入疏水基团 抑制 Ｐ 的溶解性 后者在 主链中引入亲水基团 促进 的溶解性 从而使其能被用于正性 Ｐ Ｐ ＡＡ Ｉ Ｉ 。 、 ， 光敏聚酰亚胺 讨论了ＤＮＱ 光敏剂的结构设计和种类 光刻胶的配比和光刻性能 以及正性光敏聚酰亚胺在航天 领域中的应用现状与展望。 ： ； ； ； ； ； ； ； 关键词 聚酰亚胺 聚酰胺酸 光刻胶 二叠氮萘醌 光敏剂 制备 光刻性能 航天应用 中图分类号： 文献标志码： ： ／ Ｔ １ Ｂ３４ Ａ ＤＯＩ １０．１９３２８ ．ｃｎｋｉ．１００６ ６３０．２０１７．０３．０１９ － 　 　 ｊ Ｐ ｒｏｒｅｓｓＲｅｖｉｅｗｏｎＰｒｅ ａｒａｔｉｏｎａｎｄＬｉｔｈｏｒａｈｉｃＰｅｒｆｏｒｍａｎｃｅｏｆ ｇ 　 　 　 ｐ 　 　 ｇ ｐ 　 　 ｏｎｅＰｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅＰｏｌｉｍｉｄｅｓ