械刻划变间距凹球面光栅的方法研究-光学精密工程.PDFVIP

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械刻划变间距凹球面光栅的方法研究-光学精密工程.PDF

维普资讯 1990年 第4期 光 学 机 械 总第115期 械刻划变间距凹球面光栅 的方法研究 蓬灌印 张庆英 李永贵 。 一 (酉安趣毗 舞学院’ 搞量t本文较详细地介绍 了一种简单易行的机械刻划变间距凹球面光栅的方珐。 一 、 引 言 凹球面光栅有两个作用:凹球面镜成像作用及光栅分光作用。仅仅从简化光谱仪器结构 来说凹球面光栅也比平面光栅系统好得多,应当得到广泛应用。然而,由于凹球面光栅一级 像散太大,其谱线质量远不如平面光栅系统的好。因此,一直影响着它的有效应用。 但是,随着科学技术的发展,尤其是真空紫外等超短波长分光技术的发展,凹球面光栅 成了其中必不可少的分光元件。因此,利用凹球面光栅本身的变化来消除、减小其一级像散 及其他攮差的问题就显得越来越突出了。自六十年代以来,许多科学工作者先后从理论和实 际刻划等方面进行了研究,并取得了较大进展 理论工侮已日臻完善。但实际刻划工作却举 步艰难。在国外,经长期努力,有了一些进展和成果,但技术难度太大,造价高,致使迄今 消像差凹球面光栅难以普及应用。在此研究之前,我国在这方面的研究基本上还是空白。因 此,立足于我国现有的光栅刻划技术基础一尽快实现机械刻蒯变间距凹球面光栅就成为我们 追求 的 目的了。 二、刻 划 方 法 我国光栅 划机的控制方法多采用图1所示的系坑 . 基原理如下 普通光源的光经分 光镜分成两束光均照在 . J 样板光栅上,经衍射返回分光镜,并在光电接 收器上产生干涉条纹。当工作台带魂样板光栅 及待刘毛坯一起运动时,干涉条纹会产生明暗 变化,从而光 电接收器将产生变化的电信号, 此信号可控制工作台的移动,从而将待刻毛坯 荆成所需光栅。 嘲 1 . 4.光电接收器,5:..工作台,::6.待刻毛坯I n尔 昭 lL一执’上F百『H0侈与司 7.刀架 样板光栅闻距的关系为; 维普资讯 一 Z5 一 = d/2m (1) 其中: 一个条纹工作台的位移量 d 样板光栅间距 衍射级次 从 (1)式可看出:信号变化一次,工作台的位移仅与样板光栅间距及光的衍射级次有 关。 以这样的控制系统为基础,经过反复研究实验,在不做大改动前提下,我们设计了只改 换常问距平面样板光栅为变问距平面样板光栅的方案。变间距平面样板光栅可用全息干涉法 获得。这样的方案是否存在什么问题呢? 首先,方案是否可行取决于干涉条纹变化一次,其工作台的位移与样板光栅问距是否有 关系,是否会随光栅间距的变化而变化。经过简单推导

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