正电子谱学及其应用.ppt

* * 正电子寿命的温度依赖关系（续3） （块材）Tau2 与和掺杂量温度无关 Summary 深浅捕获中心共存 深捕获中心（缺陷）在低温下有长大的趋势，可能形成心的磁通钉扎中心 结论 高温超导薄膜中存在两类缺陷 浅捕获中心——位错、孪生晶界等 深捕获中心——阳离子空位及其复合体 阳离子空位及其复合体的尺度与沉积条件无关 低温下，缺陷有长大的趋势 四. 正电子谱学应用之二分子束外延硅薄膜的质量评价 分子束外延生长半导体薄膜 衬底温度的重要性—最佳生长温度 LT—MBE 慢正电子束技术—无损检测外延膜质量 分子束 外延硅薄膜的质量评价（续） 实验结果 X Y Zhou et al, Materials Science Forum 363-365 (2001), 475 ; 分子束 外延硅薄膜的质量评价（续1） 结论 生长温度与薄膜质量 室温 小空位团 500 C 左右 单空位 575 C 空位型缺陷基本消失 700 C 锑扩散的影响 五. 正电子谱学应用之三离子注入硅产生的缺陷及其退火行为 离子注入硅产生的缺陷及其退火行为 离子注入硅产生的缺陷及其退火行为 离子注入硅产生的缺陷及其退火行为 离子注入硅产生的缺陷及其退火行为 离子注入硅产生的缺陷及其退火行为 结论（方势阱拟合） 注入引起的缺陷类型 损伤区域随退火温度增加而变窄；即前沿、后沿均向注入面移动 退火不改变缺陷类型，只引起缺陷浓度的变化 P分子离子注入的缺陷层厚一些 六. 正电子谱学应用之四界面微结构变化的慢正电子研究 描述界面的模型 界面微结构变化的慢正电子研究 界面的五种物理模型 A）均匀介质模型：块材衬底 B）理想线形接触模型 C ) 线形全吸收模型 D ) 有限厚度全吸收模型 E ) 有限厚度模型 界面微结构变化的慢正电子研究 Al/GaAs 界面微结构变化的慢正电子研究 Au/GaAs 界面微结构变化的慢正电子研究 Al/GaAs 的退火效应 界面微结构变化的慢正电子研究 赵忠尧先生《我的回忆》（摘抄） 回想自己的一生，经历了许多坎坷，唯一的希望就是祖国繁荣昌盛，科学发达。我们已经尽了自己的力量，但国家尚未摆脱贫穷与落后，尚需当今与后世无私的有为青年再接再厉，继续努力…… 谢谢大家！ * * * * * * * * * * * * 正电子谱学及其应用 李政道教授在赵忠尧先生百年纪念会上发言（摘录） 赵忠尧老师是中国核物理的开拓者，也是中国近代物理学的先驱者之一。1929年他在美国加州理工学院从事研究工作，观察到硬伽玛射线在铅中引起的一种特殊辐射，实际上这正是由正负电子湮没产生的伽玛射线，所发现的的伽玛射线的能量恰好是电子的静止质量(0.5MeV) 李政道教授在赵忠尧先生百年纪念会上发言（摘录） 赵老师的这一实验是对正电子质量的最早测量！从实验所测量的伽玛射线能量证明了正负电子对的湮没辐射，也是正电子存在的强有力的证明。这是人类在历史上第一次观测到直接由反物质产生和湮没所造成的现象的物理实验。 （也就是说，人类历史上第一个正电子湮没实验——赵忠尧先生做的） 李政道教授在赵忠尧先生百年纪念会上发言（摘录） Anderson 因正电子的发现获得Nobel奖（1932） 两年前瑞典皇家学会的Ekspong教授告诉我，当时瑞典皇家学会曾郑重考虑过授予赵老师Nobel 奖。不幸，有一位在德国工作的物理学家在文献上报告了她的结果和赵老师的观察不同，提出了疑问。当然，赵老师的实验和观察是完全准确的，错误的是提出疑问的科学家。可是……。 报告纲要 正电子谱学原理 正电子谱学基本实验技术 应用举例 一 正电子谱学基本原理 正电子 正电子湮没 双光子湮没 n=2 一 正电子谱学基本原理（续） 正电子寿命 湮没光子的能量和Doppler展宽 湮没光子的角关联 一 正电子谱学基本原理（续1） 正电子源 *放射性同位素 *单能慢正电子束 一 正电子谱学基本原理（续2） 一 正电子谱学基本原理（续3） 正电子湮没技术（70年代） 正电子湮没谱学（80年代） 正电子谱学（90年代后期） 正电子谱学的主要特点： 1. 对固体中原子尺度的缺陷研究和微结构变化十分敏感，是其他手段无法比拟的。 2. 对研究材料完全无损伤，可进行生产过程中的实时测量，能够满足某些特点的测量要求。 3. 理论比较完善，可以精确计算很多观测量同实验进行比