透射电子显微镜成像原理.PPTVIP

是研究缺陷衬度的一个非常重要的参数 位错衍衬像 Dislocations in Ni-base superalloy The micrograph shows the dislocation structure following creep, with dislocations looping around the particles Fine secondary γ’-particles are formed in the specimen Fig.?10.?The area containing thin Zr–C particles and tiny Zr-rich particles in the annealed specimen after creep test at 600?°C (100?MPa, 9160?h, total deformation 0.71%). Zone axis diffraction pattern of both matrix and thin plate-like Zr–C particles in the insert. Two matrix reflection vectors (D03 structure) are marked by arrows.  Fig. 1.?(a) Selected area 140?nm diameter of image containing single S phase particle; (b) SAED pattern from the selected area; (c) fast Fourier transform of the image intensity in (d), the HRTEM image of the embedded particle in (a); (e) microdiffraction pattern of the precipitate and surrounding matrix.  Fig. 2.?TEM micrographs and corresponding diffraction patterns of the AA2324 alloy in the WQ-270 condition: (a) bright field; (b) [0?0?1]Al SAD pattern of the S phase precipitate in dark contrast in (a) with surrounding matrix (the streaks emanating from the brighter Al spots are an artefact due to camera saturation); (c) simulated SAD pattern corresponding to (OR1). The rectangle corresponds to the range of (b). 位错运动的动态电子显微镜观察 左：具有最大衬度的刃位错像 g∥b 右：位错衬度趋于零 g⊥b 透射电子显微镜的成像原理 透射电镜像 1、复型像：反映试样表面状态的像，衬度取决于复型试样的原子序数和厚度； 2、衍衬像：反映试样内部的结构和完整性，起源于衍射光束； 3、相衬像：由透射束和一束以上的衍射束相互干涉产生的像。 2、衍射衬度像 明场像 暗场像 晶体的衍衬像：由于晶体的取向不同，导致各个晶粒对电子的衍射能力不同所产生的衬度变化。 晶体中的取向：多晶、析出物、缺欠 多晶 析出物 共格 半共格 非共格 位错 二、衍衬像：明场像与暗场像 明场像的成像 明场像：采用物镜光栏挡住所有的衍射线，只让透射光束通过的成像。 透过取向位置满足布拉格关系的晶粒的电子束强度弱 透过取向位置不满足布拉格关系的晶粒的电子束强度强 暗场像的成像 暗场像：采用物镜光栏挡住透射光束，只让一束衍射光通过的成像。 透过取向位置满足布拉格关系的晶粒的电子束强度强 透过取向位置不满足布拉格关系的晶粒的电子束强度弱 暗场像的成像 使光阑孔套住hkl斑点，把透射束和其它衍射束挡掉，在这种暗场成像的方式下，衍射束倾斜于光轴，故又称离轴暗场。 离轴暗场像的质量差，物镜的球差限制了像的分辨能力。 000 hkl 暗场像的成像 000 hkl 通过倾斜照明系统使入射电子束倾斜2θB，让B晶粒的( )晶面处于布拉格条件，产生强衍射，而物镜光阑仍在光轴位置上，此时只有B晶粒的 衍射束正好沿着光轴通过光阑孔，而透射束和其它衍射