版图制作简介.ppt

下载文档 降价啦

9
0
约小于1千字
约 49页
2019-08-13 发布于湖北
举报
版权申诉
保障服务

版图制作简介.ppt

1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。

Bo ZHANG zhangbo@xupt.edu.cn;;Wafer Processing;Wafer Processing;Wafer Processing;IC Layout;IC Layout;The Versatile Rectangle;The Versatile Rectangle;The Versatile Rectangle;The Versatile Rectangle;Making a Wafer Base;Making a Wafer Base;Making a Wafer Base;Making a Wafer Base;Making a Wafer Base;Changing Layer Composition;Implantation;Diffusion;Adding a Layer;Adding a Layer;Chemical Vapor Deposition;Chemical Vapor Deposition;Chemical Vapor Deposition;Oxide Growth;Sputtering;Evaporation;Removing a Layer;Photolithography;photolithography;mask;mask;Photoresist;Photolithography;Building a Chip ;Creating a Hole ;Creating a Hole ;Creating a Block;Creating a Block;Planarization;Silicon Dioxide as a Mask;Self-Aligned Gates;Self-Aligned Gates;Self-Aligned Gates;Self-Aligned Gates;Self-Aligned Gates;Closure;Closure;What We’ve Learned