过程控制-45-均匀控制系统.pptVIP

第四章 4.5均匀调节系统 均匀控制系统的特点 不同于常规的定值控制系统，而对被控变量(CV)与控制变量(MV)都有平稳的要求； 为解决CV与MV都希望平稳这一对矛盾，只能要求CV与MV都渐变。均匀控制通常要求在最大干扰下，液位在贮罐的上下限内波动，而流量应在一定范围内平缓渐变。 均匀控制指的是控制功能，而不是控制方案。 简单均匀控制 串级均匀控制 串级均匀控制 双冲量均匀控制 双冲量均匀控制 均匀控制系统的分析 均匀控制系统的分析(续) 均匀控制系统的分析(续) 纯比例均匀控制系统的特点 可实现进出物料的自动平衡； 当物料的平均停留时间Th一定时，控制器增益Kc的减少可使出料更加平缓，但使液位的波动范围与余差同时增大； 为减少液位的调节余差，主控制器需要引入少量的积分作用。 均匀控制系统的PID参数整定 对于串级均匀控制系统的副调节器，应选择PI规律，按单回路工程整定法确定其PI参数。 对于主调节器，一般应选择纯比例规律，即积分时间足够大。通过调整增益Kc以使出料尽可能地平缓，而同时确保液位不超出允许范围。有时为减少液位的调节余差，可引入少量的积分作用，但积分时间应大于纯比例控制下系统对于主要扰动的恢复时间。 当液位测量噪声较大时，为避免出料流量的同频率波动，可对液位测量信号进行低通滤波。 * * 均匀调节系统的提出 均匀调节系统 当塔甲的进料量变化时，希望塔甲的液位h(t)与出料 qo(t)同时平稳，以确保后续设备进料波动的减少。 这完全不同于单纯的液位控制系统（那里只关心液位的平稳，而不关注控制变量的变化情况），而要求液位与出料 同时“均匀”地变化。 解决方法：从工艺角度考虑，在两设备之间加贮槽 均匀调节系统 条件： 必须有储槽； 2）缓冲缸的积累量应于流量变化相适应 均匀控制系统意义： 对于一套控制装置，它借助贮槽的缓冲，将一个变化剧烈的设备变换成一个变化平稳或缓慢的流量，这样的控制规律叫均匀控制系统。 (1)分析： 1）结构上同单回路，动态指标不同 2）与定值系统区别： a）定值系统： ① L稳定 ② 调节作用强 ，Ti↓ ③ 保主参数L b）均匀系统： ① L、Qo全波动 ② L、Q缓慢变化，调节弱，有大偏差调节 总实现原则：宽比例度，大积分，决不能加微分。 (2) 比例度选择原则 只要液位按照上、下限，依靠控制阀作用，不至于使偏差过大，即：L接近上限，使阀的流量大于输入量，接近下限时使流出量小于流入量。 (1)分析： ① 结构上同串级 ② 动作过程同串级 ③ 具有串级特点（副回路） ④ 无串级的控制精度，主参数变化慢 (2)应用： ①阀前后压力波动显著 ②自衡作用显著 (1) 分析： ①冲量：指引入控制系统中的测量信号而言。 ②由两个参数之差为被控变量组成均匀系统③与串级相比，用一个加法器代替主控制器 (2) 具体动作过程： 1)加法器运算公式：Po=PL-PQ+PS PS为偏置信号 2)稳态时：Po=Pr 阀门有一个开度 3)调节过程： ① Lo→L1↑→PL↑→Po↑→V↑→Qo↑→L1↓ ②V↑→Qo↑→PQ↑→Po↓→V↓ （总的流量也增加） ③当Po=Pr时，阀又处于新的开度（L→L2，Qo→Q2） (3)特点： ①用减法器代替调节器 ②结构简单，性能好 ③参数整定方便 假设流量回路调节迅速，对液位对象而言其动态滞后可忽略；并不考虑液位测量滞后。则广义对象特性可表示成 A为塔底截面积 假设液位测量范围为Hmax，进出流量的测量范围均为Qmax，则广义对象特性可表示成 其中h(t)、 qi(t)、 qo(t)分别为液位与进出流量的归一化值。 对于纯比例控制器Gc = Kc，可得到的闭环特性为： 算法选型及参数整定 调节器2： PI型（ 参数整定参见比值调节系统参数整定方法 ） P型 很小比例度 调节器1： P型 基于允许液位有一定范围的变化，在工艺允许情况下，尽量增大这个偏差以充分利用塔釜容积，使排出量得到最大的平稳。 均匀调节系统 塔釜 LIC1 FIC2 V1 管道 FT2 LT1 如果工艺上要求把液位保持较准，则利用PI型，这样塔釜液位不会因同向干扰连续作用下的积累而超过它的上下限，但流量的平稳性就要差一些。 对于这种调节器的经验整定方法，是根据容槽的停留时间来确定