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第27卷,第1期 光谱学与光谱分析
2oo7年1月 and
SpectroscopySpectralAnalysis January,2007
萃取分离一电感耦合等离子体质谱法测定高纯铝中的杂质元素
谢华林1,聂西度1,李立波2
1。湖南工学院化工系,湖南衡阳421008
2.中南大学化学化工学院应化系,湖南长沙4l0083
Cu,Mo,Cd,Pb和Bi。详细地讨论了仪器工作参数,内标元素,分离、富集条件,样品基体的干扰,确定了
实验的最佳测定条件。结果表明,方法的检出限为o.011~O.052肛g·L,回收率为92.2%~103.O%,相
质元素的测定,结果满意。
关键词萃取分离;高纯铝;杂质元素;ICP-MS
中图分类号:0657.6文献标识码:A 文章编号:1000—0593(2007)01一0169一04
引 言 1实验部分
作为原材料,高纯金属铝广泛应用于计算机、通讯、光 1.1仪器与试剂
导纤维、半导体材料等高科技行业,准确了解其杂质元素的
种类及含量具有重要意义。目前铝及铝合金中杂质元素分析
多采用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)[1’2],浸泡过夜,用超纯水冲洗3次,备用。
但由于受仪器灵敏度的限制,对高纯金属中痕量杂质的元素
(1ooo
分析,其准确度和精密度均不令人满意。电感耦合等离子体 mg·L_1)由国家标准物质研究中心提供;Al标准储
质谱(ICP_MS)是20世纪90年代以来发展最快的无机痕量备液(50mg·mLll)采用高纯铝配制;由上述标准储备液逐
分析技术之一,该技术具有谱图简单、检出限低、线性动态
范围宽、快速和多元素分析等特点,应用十分广泛[3]。但是 标准溶液,体积分数为5%HCl介质。20mg·Lul吡咯烷二
在分析高纯铝或氧化铝样品时,由于大量基体的存在以及由 硫化氨基甲酸铵(A唧);甲基异丁基酮(MIBK)。
ooO
于引入溶剂而产生的大量多原子离子干扰,使ICP_MS的应 内标混合标准溶液:Rh标准溶液(1mg·L-1)由国
用受到限制。有研究者采用高分辨质谱对高纯氧化铝中的24 家标准物质研究中心提供,使用前用1%HN03逐级稀释。
种杂质元素进行了测定[4t51;Wende等[6]采用电热蒸发样品所有的空白溶液、标准溶液、混合标准溶液和样品溶液都通
技术对高纯氧化铝粉末中的8种杂质元素进行了分析,由于 过仪器在线加入内标溶液至内标元素的浓度均为50心·
只引入了样品而没有水蒸气,从而大大地降低了多原子离子 L-1。
和氧化物的干扰水平。消除基体干扰最直接有效的方法是基 以上所有试剂均为分析纯,Ha,Hz02和HN03为优
体分离,为此,我们在前期工作基础上[7],研究了A胁级纯试剂。
MIⅨ(萃取分离基体铝,ICP_MS法直接分析高纯铝中Co,1.2仪器参数的选择
350
Ni,Cu,Mo,Cd,Pb和Bi七种杂质元素的分析方法,结果高频发射功率;1 W,采样深度:7.8rm,等离子体
表明该方法操作简便、快速、准确、重复性好。 气流速:14.oL·min~,辅助气流速:1.OL·min~,载气
流速:1.1
℃,样品提升量:o.4mL·min,采样锥和截取锥:Ni,测
收稿日期:2005一11—11,修订日期:2006—02—15
基金项目:湖南省自然科学基金项目(03JJY5001)资助
作者简介:谢华林,1970年生,湖南工学院化工系副教授 e_nlail:hualin妇
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