半导体工艺及器件仿真工具Sentaurus_TCAD.pptVIP

*/117 产生原因：击穿点附近，电流变化太迅速，基于原来的初始解A，通过一个仿真步长，电压变化△V，此时假定下一点处于B点，而假定点B和真实点C之间的电流变化量△I太大，程序无法通过迭代获得正确点，因此始终无法收敛。 * 浙大微电子 */117 解决方法 Electrode { { Name=anode Voltage=0.0 resistor=3e9} { Name=cathodeVoltage=0.0 } { Name=sub Voltage=0.0 } } * 浙大微电子 */117 初始解的不收敛 初始解的不收敛就是仿真的第一个点就无法收敛： ①由于初始解具有较大的随机性，因此当它进行迭代的时 候，如果要同时满足多个方程的收敛相对较为困难； ②由于某个电极上的初始电压值给得过高，难以建立初始解。 * 浙大微电子 */117 ①的解决方法 Solve{ Coupled{Poisson Electron Hole Temperature } Quasistationary{……} Coupled{Poisson Electron Hole Temperature} } Solve{ Poisson Coupled{Poisson Electron} Coupled{Poisson Electron Hole } Quasistationary{……} Coupled{Poisson Electron Hole Temperature} } * 浙大微电子 */117 Electrode{ Name=“Drain”, Voltage=0.0 Name=“Source”, Voltage=0.0 Name=“Gate”, Voltage=5.0 Name=“sub”, Voltage=0.0 } …… Solve{ …… } Electrode{ Name=“Drain”, Voltage=0.0 Name=“Source”, Voltage=0.0 Name=“Gate”, Voltage=0.0 Name=“sub”, Voltage=0.0 } …… Solve{ …… Goal{name=“Gate”, Voltage=5.0} } * 浙大微电子 */117 工艺仿真中网格设置得不好 解决方法: 调整优化网格 * 浙大微电子 */117 本章内容1 集成工艺仿真系统 Sentaurus Process 2 器件结构编辑工具Sentaurus Structure Editor 3 器件仿真工具Sentaurus Device 4 集成电路虚拟制造系统Sentaurus Workbench简介 * 浙大微电子 */117 虚拟制造系统Sentaurus Workbench简介 Sentaurus Workbench（SWB）简介 Sentaurus Workbench基于集成化架构模式来组织、实 施TCAD仿真项目的设计和运行，为用户提供了图形化界 面，可完成系列化仿真工具软件，以参数化形式实现TCAD 项目的优化工程。Sentaurus Workbench支持实验设计优 化，参数提取，结果分析，参数优化等，实现了集成化的 任务安排，从而最大限度地利用了可计算资源，加速了 TCAD仿真项目的运行。 * 浙大微电子 */117 创建和运行仿真项目 1. 建立新的仿真项目 在菜单中选择Project New。 2. 构造仿真流程 在Family Tree视图下，在No Tools处右击鼠标。然后在 弹出的对话中，单击Tools按钮，在Select DB Tool菜单中 选择sprocess工具。 * 浙大微电子 */117 3. 导入卡命令文件 （1）在Sentaurus Process图标按钮处点击鼠标右键，选 择Import File Commands。 （2）在弹出的Import Flow File对话框中，找到需要的工 艺卡命令文件。 （3）单击Open按钮。 另外，在工艺文件中，最终的器件结构信息文件应该 保存为节点格式，即struct smesh=n@node@。 * 浙大微电子 */117 4. 添加其它仿真工具 重复以上操作步骤，依次添加所需要的仿真工具，如 Sentaurus Structure Editor、Sentaurus Device、Inspect 等，并依次导入对应的卡命令文件。需要注意的是，在 Sentaurus Structure Editor中，最终的结构需要保存为 “n@node@_msh”格式，而在Sent