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第24卷第2期2007年6月?? ???????? 广东工业大学学报?? JournalofGuangdongUniversityofTechnology ?????? Vo.l24No.2??June2007 PCB激光投影光刻照明系统的设计 林清华,李文静,宋??超,王鲁宾 (广东工业大学物理与光电工程学院,广东广州510006) 摘要:针对大面积、高产量和节约型印制电路板(PCB)生产使用的激光投影光刻机,利用ZEMAX工程光学设计软件,对其照明系统进行了模拟设计与优化,并对优化后的结果进行了分析.对于设计的照明系统,其像面均匀性、光斑大小和形状、像差以及照明系统与投影物镜的匹配都符合实际要求.关键词:印制电路板;激光投影光刻;照明系统 中图分类号:TN305.7????????????文献标识码:A????????????文章编号:1007-7162(2007)02-0033-03 ????照明系统是投影光刻机的关键部件之一,要求具有很好的照明均匀性,且能量利用率高,其性能直接影响到光刻机的蚀刻图形的质量.如果照明不均匀,将导致光刻出来的线条粗细不均匀,整块板上的分辨力不一致,或有断线等,这在生产过程中是不允许的.因此一个好的照明系统也是至关重要的.激光投影光刻机,尤其是扫描式的激光投影光刻机基于其优越的性能,在制造大面积、高密度集成电路(IC)、液晶显示(LCD)、印制电路板(PCB)等方面显示出巨大的优势 [1-2] 对比度质量也比较好 [3] .对于印制电路板,其光刻分 辨力达到10??m,可以满足今后10年内对产品需求,其投影物镜的数值孔径NA=0.025,如果相干度取0.8,则照明系统的数值孔径应为0.02. 3)照明均匀性:投影光刻机对曝光均匀性的要求很高,一般情况下,线宽越小对均匀性的要求越高 [4] .对于本设计,其分辨力不要求达到亚微米量4)与投影物镜的匹配:设计的照明系统除了要 级,其照明不均匀性在5%以内即可. 求照明相干度满足上述要求外,还要求其出瞳与投影物镜入瞳匹配 [5] .本文仅就用于PCB曝光的 激光投影光刻机的照明系统进行设计研究.准分子激光器发出的是高斯光束,其强度呈高斯分布,中间强,两端逐渐减弱,光束截面呈长方形,要把它作为光刻照明光源,首先必须对它的光束进行整形,使其成为达到要求几何形状和大小的均匀光束. .对于投影光刻物镜,通常采用双 远心的结构设计,这种形式的投影物镜,不但在像面(基板表面)离焦时,而且在物面(掩模图形面)有位移时,投影的倍率都可以保持不变 [5] .此结构的投影 物镜,其入瞳在无穷远处,因此照明系统的出瞳位置也应在无穷远处才能使照明系统的出瞳与投影物镜的入瞳相匹配.此外,光斑大小也要与投影物镜的视场保持一致. 5)光斑形状和大小:光刻机系统采用六边形无接缝扫描技术,因此传播到底板上的光束截面应呈正六边形分布;光斑大小应与投影物镜的视场一致,投影物镜的视场在半径为25mm的范围内,因此正六边形边长应取25mm才能与其一致. 6)玻璃材料:为了尽可能减少能量损失,应选择紫外线透过率较高的玻璃材料,而且选择的玻璃材料受准分子激光照射时损伤较小.最适合的玻璃材料是熔石英,这种材料的机械强度好、耐热性能高、化学性质稳定、热膨胀系数小,紫外线的透过率均在90%以上,远高于其它普通玻璃,如果再镀制 1??设计要点 1)像差校正:对于照明系统,其像差最重要的影响是远心度的破坏,其中影响最为严重的是球差.照明系统像差校正不要求像投影物镜那样严格,主要是校正球差. 2)相干度的选择:所谓照明相干度,就是通过照明系统所形成的光源像在投影物镜入瞳上成像的H聚 大小与入瞳直径的比值即??=,也可以表示为照 D物明系统的数值孔径与投影物镜的数值孔径的比值,??=( NA照明 ),其相干度一般取0??6~0??8为好,此时NA投影 照明系统光能利用率高,而且投影物镜成像的线条 收稿日期:2007-03-14 基金项目:广州市科技计划项目(2006Z3-D0041) 女,,. 34 广 东 工 业 大 学 学 报 第24卷 高质量的增透膜,对351nm波长的透过率可以达到98%以上. 7)玻璃厚度:为了满足实际光学加工的需求,光学玻璃厚度不能太小,一般对于正透镜中心厚度应大于3mm,负透镜口径与中心厚度的比值不应小于1/15~1/10. [6] 图2 复眼透镜阵列 2 光学设计 本设计是基于Coherent公司的ExcistarS-lndus-trial1000型XeF准分子激光器而设计的,其波长为351nm,光斑大小3mm 6mm,发散角1mrad 2mrad. 2.1 扩束准直系统设计 准分子激光光束截面呈长方形,且能量分布不均匀,由于需要满足在均束面能量均匀、对称分布的要求,

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