锂粉注入器设计及锂化壁处理物理研究-项目简介.pptVIP

ASIPP 锂粉注入器设计及锂化壁处理物理研究 2010-12-20 指导老师：胡建生 报告人：孙震 目录 一、背景、意义 二、国际其他装置锂化状况 三、锂化基本原理 四、EAST锂化系统 五、研究内容 工程方面 物理方面 六、实验内容及研究方法 七、初步实验结果 八、下一步工作安排 九、参考文献 一、研究背景及意义（1） 等离子体与第一壁作用 碳、氧等杂质及粒子再循环加强 杂质辐射、能量损失、影响温度分布和能量平衡 第一壁材料选择和各种壁处理技术成为关键方法 锂和锂的壁处理技术受到世界很多聚变装置青睐 锂 Zeff低（原子序数低） 降低H同位素再循环 强物理和化学吸附能力 高耐热冲击性 液态锂自我修复能力 锂化作为控制杂质和抑制粒子再循环的重要技术，目前已被广泛应用其主要技术： 锂蒸发涂覆 锂弹丸注入 锂粉撒入 液态锂面限制器 研究背景及意义（2） 二、国际其他装置锂化（1） TJ-II在硼化基础上使用锂蒸发镀膜的方式得到了密度上升和杂质水平控制 增加NBI加热效率，促进了H-MODE实现 国际其他装置锂化（2） 锂化方式： 锂球/粉注入 锂蒸发 液态锂偏滤器 结果： 降低杂质 控制边界等离子体密度 改善等离子体约束 提高加热效率 降低L-H转换能量阈值 抑制ELMs …… 锂粉撒入对ELMs的抑制 三、锂化原理 蒸发镀膜 直接蒸发法： 将锂锭置于真空室内的坩埚中，在高真空条件下，通过加热坩埚使其蒸发，蒸气的锂原子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的冲击与阻碍，可直接到达器壁表面上，由于第一壁温度较低，变凝结其上而成为新鲜的锂膜，来改善壁条件。 GDC辅助加热： 在HE-GDC辅助加热下，蒸发的锂原子进入辉光区中，一部分锂原子被电离，大部分达不到离化能量，电离的锂离子受高压电场影响，以较高能量轰击到第一壁上，并沉积成膜 ICRF辅助加热： 在HE-ICRF辅助加热下，部分锂蒸气原子被高功率ICRF电离，并从离子回旋波得到能量，高能粒子（锂离子，复合形成的原子）轰击到第一壁上，并最终沉积成膜 锂粉注入 在放电过程中，锂粉通过重力加速或者机械加速的方式注入到等离子刮削层中，被边界等离子体迅速融化和电离，与边界等离子体发生物理化学作用，并在刮削层中被输运到石墨壁上，达到改善边界等离子体参数并改善壁条件的效果 四、目前EAST上锂化状况 坩埚 坩埚 dropper 两套锂蒸发系统分别位于M、F水平窗口 问题： 1.坩埚导入长度不够 2.锂化镀膜的不均匀 一套锂粉撒入系统（来自PPPL）位于H上窗口高场侧。 问题： 1.借用 五、研究内容（1） 工程方面 优化和增加坩埚锂化系统 锂的更有效利用：增加坩埚进入内真空室深度，减少锂在窗口管道沉积； 四个锂化系统，实现均匀锂化，提高锂化效果。 设计锂球注入系统 PPPL锂球系统可能被拿走； 发展锂球系统，改善锂的安装结构，实现方便快速的锂粉装入； 发展高速锂粉注入系统， 物理研究 锂球注入系统优化和发展 参考PPPL锂粉撒入系统的设计 优化真空室和法兰，简化装锂粉过程 需要台面实验测试各频率下锂粉落下的量 5 m/s 利用快速旋转地叶片，将自由落下的锂粉从低场侧的打入装置，增加锂粉注入刮削层速度和深度，改善等离子体边界。 需要进行台面测试合适的叶片旋转速度和锂粉速度的关系。 锂球 15 – 300 Hz 5 – 100 m/s 五、研究内容（2） 工程方面 物理研究 对杂质抑制的影响 对放电恢复的影响 对降低氢的再循环的影响 对降低H/(H+D)比的影响 对改善加热效率的影响 对MHD的抑制的影响 对改善等离子体约束的影响 对等离子体内能的影响 对高参数等离子体放电的影响 对长脉冲放电的影响 对抑制ELMs和实现H-MODE的影响 六、实验内容及研究方法（1） 实时撒入锂粉质量（mg级） 触发信号脉宽 触发信号幅值 锂粉进入等离子体时间 观察彩色CCD视频，分析锂粉进入SOL状态 对比撒锂粉炮和标准炮的等离子体线密度，碳、氧杂质，环电压， Ha等信号 对比一炮中撒锂粉前后等离子体相关参数 对比连续多炮锂粉注入与标准炮的等离子体相关参数 分析锂粉注入对MHD，ELMs的影响 对比锂粉撒入时内能、Ha、Da线，分析与实现H-MODE的关系 分析长脉冲放电多次撒锂粉的效果 对比ICRF加热效率 调节 实验内容： 等离子体电流爬升阶段 等离子体电流稳定阶段 分析方法： 实验内容及研究方法（2） 通过压缩焊接波纹管导入装有锂（99.9%）的坩埚，加热坩埚500~600℃，进行锂蒸发涂覆 选择蒸发方式（无辅助蒸发、HE-GDC和HE-ICRF辅助蒸发） 调节蒸发时间和温度 采用不锈钢、石墨、硅基片作样品，分析锂膜结构、成分等