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第五章
无源与有源电流镜
简单偏置的电流源
u C W R 2
I n ox ( 2 V V )
OUT DD TH
2 L R R
2 1
上式说明Iout受很多因素影响：电源、
工艺(不同晶片VTH可能会有–100mV的
误差)、温度(m ，V 都受温度的影响)
n TH
。因此I 很难确定。特别是为使M 消
out 1
耗较少的电压余度而采用较小的偏置电
压时，这个问题更严重。
例如，若Von1 ＝200mV，VTH有50mV的误差就会使输出
电流产生44%的误差。
如何产生精度、稳定性均较好的电流源?
用基准来产生电流源
用相对较复杂的电路(有时需
要外部的调整)来产生一个稳
定的基准电流IREF 。
在模拟电路 ，电流源的设计是基于对一个稳定的基准电流
IREF 的复制( IREF常由基准电路(第11章)产生，这里不作讨论)
，从而得到众多的电流源。现在我们关心的是，如何产生一
个基准电流的精确复制呢？
基准电流的简单 复制”
基本电流镜 ，若不
考虑沟道调制效应：
n COX W 2
I = ( )(V - V )
REF 1 GS TN
2 L
n COX W 2 基本电流镜
I = ( ) (V - V )
out 2 GS TN
2 L
(W/L)2 该式表明Iout是IREF 的复制且不受
I = I
out (W/L)1 REF 电源电压、温度和工艺的影响。
事实上，VDS1通常是不变的，而VDS2与Iout连接的节点电压有
关，一般而言，这个节点的电压是随输入信号变化而变化的
，l„0时，Iout不可能是IREF 的 精确”复制。
电流镜有何用途？
电流镜运用举例
基本电流镜的误差
Iout如何精
确复制Iref?
1 W 2
I I k ( )(V V ) (1 λV )
D1 ref 2 n,1 L 1 GS,1 TH,1 1 DS,1
1 W
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