薄膜物理课件 2蒸发源的类型.pptVIP

蒸发源的类型 二、电子束蒸发源 电阻加热蒸发源缺点 (1) 来自加热装置、坩埚等可能造成的污染 (2) 电阻加热法的加热功率或加热温度也有一定的限制 电子束蒸发克服了电阻加热法的上述两个缺点，特别适合制备 高熔点薄膜材料和高纯薄膜材料 要制备纯度很高的薄膜材料，以及蒸镀某些难熔金属和氧化 物材料时，采用电阻加热蒸发源不能满足要求 蒸发源的类型 电子束蒸发是将蒸发材料放入水冷铜坩埚中，直接利用电子束 加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸 发镀膜技术的一种重要的加热方法和发展方向 电子束加热原理与特点 电子束加热原理是基于电子在电场作用下，获得动能轰击处于 阳极的蒸发材料上，使蒸发材料加热气化，从而实现蒸发镀膜 若不考虑发射电子的初速度，则有 U e m ? ? 2 2 1 ? U ：电子的加速电压 e ：电荷 (1.6 × 10 -19 C ) m : 电子的质量 (9.1 × 10 -28 g) 蒸发源的类型 这样高速运动的电子在一定的电磁场作用下，使之汇集成电 子束并轰击到蒸发材料的表面，使动能变为热能 电子的运动速度为 ? ? s m U / 10 93 . 5 5 ? ? ? 假如 U = 10 kV , 则电子速度可达到 6 × 10 4 km/s 当加速电压很高时，产生的热能可足以使蒸发材料气化蒸 发，从而成为真空蒸发的良好热源 蒸发源的类型 蒸发源的类型 电子束蒸发源的优点 (1) 电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大 的能量密度。可在不太小的面积上达到 10 4 ~10 9 W/cm 2 的功率 密度，因此使高熔点材料蒸发 ( 温度可达 3000 ℃ ) 。如蒸发 W 、 Mo 、 Ge 、 SiO 2 、 Al 2 O 3 等 (2) 由于被蒸发材料是置于水冷坩埚内，因而可避免容器材料的 蒸发 ，以及容器材料与蒸镀材料之间的反应，这对提高镀膜 的纯度极为重要 (3) 热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热效率高，热传导和 热辐射的损失少 蒸发源的类型 电子束蒸发源的缺点 (1) 电子枪发出的一次电子和蒸发材料发出的二次电子会使蒸发 原子和残余气体电离，这有时会影响膜层质量 ( 可通过设计 和选用不同结构的电子枪加以解决 ) (2) 多数化合物在受到电子轰击会部分发生分解，以及残余气体 分子和膜料分子部分地被电子所电离，将对薄膜的结构和性 质产生影响 (3) 电子束蒸镀装置结构较复杂，设备价格较昂贵 (4) 当加速电压过高时所产生的软 X 射线对人体有一定伤害 蒸发源的类型 蒸发源的类型 三、高频感应蒸发源 高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的坩埚放在高频螺旋线圈 的中央，使蒸发材料在高频电磁场的感应下产生强大的涡流 损失和磁滞损失 ( 对铁磁体 ) ，致使蒸发材料升温，直至气化 蒸发 蒸发源一般由水冷高频线圈和石墨或陶瓷坩埚组成，其原理 如下图所示 蒸发源的类型 蒸发源的类型 蒸发源的类型 高频感应蒸发源的特点 (1) 蒸发速率大，可比电阻蒸发源大 10 倍左右 (2) 蒸发源的温度均匀稳定，不易产生飞溅现象 (3) 蒸发材料是金属时，蒸发材料可产生热量。因此，坩埚可选 用和蒸发材料反应最小的材料 (4) 蒸发源一次装料，无需送料机构，温度控制比较容易，操作 比较简单 蒸发源的类型 高频感应蒸发源的缺点 (1) 蒸发装置必须屏蔽，并需要较复杂和昂贵的高频发生器 (2) 如果线圈附近的压强超过 10 -2 Pa ，高频场就会使残余气体 电离，使功耗增大 第四节 合金及化合物的蒸发 对于两种以上元素组成的合金或化合物，在蒸发时如何控 制成分，以获得与蒸发材料化学比不变的膜层，是非常重 要的问题 利用蒸发法制备合金或化合物时，常需要考虑薄膜成分偏 离蒸发材料成分的问题 合金及化合物的蒸发 蒸发二元以上的合金及化合物的主要问题 一、合金的蒸发 蒸发材料在气