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Ｆｍｏｃ 法肽合成中正交保护赖氨酸的研究进展 摘 要：综述了各种用于Ｆｍｏｃ 法肽合成赖氨酸的正交保护方法， 这些保护方法对多 肽的化 学修饰起着十分重要的作用。 介绍了各种 正交保护赖氨酸 的合成 、脱除方法及在肽合成中的应 用实例，分析 了各种保护基的特点、 相互间的互补性及不足之处。 关 键 词： 正交保护；肽合成；赖氨酸 １９６３年，Ｍｅｒｒｉｆｉｅｌｄ 创立了固相多肽合成 法 〔１〕 ，从此以各种保护氨基酸为原料的固相合成 研究及其应用引 起了人们的广泛关注。 今天，固 相合成法得到了很大发展。 正交 保护是指在一定条件下，分子中的一组 保护基可被选择性地脱除， 而其他保护基不受影 响 〔２〕 。 一般情况下，正交保护是指基于机理之间 的区别，例如半永久性和临时性保护基之间的区 别，而且正交保护策略一般能提供较温和的反应 条件。 Ｌｙｓ 中的 ε 氨基碱性很强，同时具有亲核作 用。 Ｆｍｏｃ 策略中，Ｂｏｃ 基团 是比较好的保护基团， 对碱的稳定性好，可以有效抑制副反应的发生。 赖氨酸是双氨基的氨基酸，同时Ｌｙｓ 一般也是进行 化学修 饰的位点，这时需要特殊的保护基团， 一般 使用Ａｌｌｏｃ 〔３〕 、Ｄｄｅ 〔４〕 、ｉｖＤｄｅ 〔５〕 等进行正交保护。 １Ｄｄｅ 保 护的赖氨酸 Ｄｄｅ 保护基团在肽合成中主要用于保护伯 胺，它是由２乙酰基５，５二甲基１，３环己二酮在ＤＭＦ 溶液中形成的〔６〕。由于它易于被 ２％ 肼／ＤＭＦ溶液脱除和在 ＴＦＡ 和哌啶溶液中相对稳定，所以Ｄｄｅ保护的赖氨酸在 Ｆｍｏｃ／ｔＢｕ 肽合成策略 中用于合成支链肽、 环肽和侧链氨基修饰的肽。 １． １Ｆｍｏｃ Ｌｙｓ（Ｄｄｅ） ＯＨ 的合成 Ｆｍｏｃ Ｌｙｓ（Ｄ ｄｅ） ＯＨ 的合成方法较多。 由于 醛酮和伯胺反应生成含碳氮双键的亚胺（ 西佛 碱），亚胺在稀酸中水解，又回到原来的羰基化合 物及胺，可以用这一机理来保护赖氨酸中的 ε 氨 基。 Ｐｒａ ｓａｄ Ｓ． Ｒａｊｅ 等 〔７〕 报道用茴香醛在碱性条件 下和赖 氨酸形成西佛碱临时性地保护 ε 氨基，然 后选择Ｆｍｏｃ 保护 α 氨基。 稀酸水解西佛碱去除 ε 氨基保护，最后选择保护基保 护 ε 氨基。 可以 利用这一原理合成Ｆｍｏｃ Ｌｙｓ（Ｄｄｅ） ＯＨ（图１） 〔８〕 。 图１ Ｆｍｏｃ Ｌｙｓ（Ｄｄｅ） ＯＨ 的合成 １． ２ Ｄｄｅ 保护基团的脱除 Ｄｄｅ 保护基团 可以用２％的水合肼在 ＤＭＦ 溶 液或乙醇胺溶液中去除（ 图 ２）。 用水合肼脱除 Ｄｄｅ 时，若肽链中同时含有 Ａｌｌｏｃ 保 护基团，Ａｌｌｏｃ 上的双键会被肼还原。 加入一定量的烯丙基醇 作 为清除剂能阻止双键的还原 〔９〕 。 图２ 用２％的水合肼 ／ ＤＭＦ 溶液脱除Ｄｄｅ 保护基团 由于在利用水合肼脱 除 Ｄｄｅ 保护基团时，会 有部分的 Ｆｍｏｃ 基团脱落， Ｊ． Ｊ． Ｄｉａｚ Ｍｏｃｈｏｎ 等 〔１０〕 利用盐酸羟胺 （咪唑，ＮＭＰ，ＤＣＭ）在 Ｆｍｏｃ 保护基 团存在的情况下定量脱 除 Ｄｄｅ 保护基团（图３）。 这种新的脱除方法在脱除 Ｄｄｅ 时不会对 Ｆｍｏｃ 保 护基团有任何影响。 图３ 盐酸羟胺（咪唑，ＮＭＰ，ＤＣＭ）溶液脱除Ｄｄｅ 保护基团 １． ３ Ｄｄｅ 保 护基团的不足之处 Ｄｄｅ 保护基团的不足之处主要有２ 点：首先， 当用２０％的哌啶／ ＤＭＦ 脱除 Ｆｍｏｃ 时，在每次脱除 过程 中会有少量的 Ｄｄｅ 保护基团脱落，所以在合 成长链肽时会严重 影响肽的纯度，为了避免上述 副反应产生可以使用 ＤＢＵ／ ＤＭ Ｆ（２ ∶９８） 作为 Ｆｍｏｃ 的脱除试剂；其次，有报道指出 Ｄｄｅ 保护基 团会发生分子内的从侧链或 α 氨基到赖氨酸上 ε 氨基的Ｎ → Ｎ’位移 〔１１〕 。 １． ４ Ｄｄｅ 保护 的赖氨酸在肽合成中的应用 Ｇ． Ｂ． Ｂｌｏｏｍｂｅｒｇ 等 〔１ ２〕 用 Ｆｍｏｃ Ｌｙｓ （ Ｄｄｅ） ＯＨ 和正交保护的Ｇｌ ｕ 成功地合成支链 环肽。 具体方 法为 先 合 成 Ａｃ Ｃｙｓ （ ｔｒｔ ） Ｇｌｕ （ ＯＡｌｌ ） Ａｌａ Ｌｙｓ （Ｄｄｅ） Ｒｅｓｉｎ 后用１． ５％的水合肼／ ＤＭＦ 脱除 Ｄｄｅ 保护 基团，然后赖氨酸上的 ε 氨基与Ｆｍｏｃ ＧＧＥＫ ＴＲＮＱ ＭＧ ＣＯＯＨ 偶联，最后脱除Ｆｍｏｃ 保护基后的 α 氨基， 用Ｐｄ（ＰＰｈ ３ ）４ 脱除 Ｇｌｕ 上的 Ａｌｌｙｌ 保护基 后 的 γ 羧基偶联，这样便得到 环肽。 ２ ｉｖＤｄｅ 保护的赖氨 酸 由于ｉｖＤｄｅ 是通过改进 Ｄｄｅ 保护基团而得