学习材料X射线确定指标.docVIP

第一包 序号 设备名称 技术参数 数量 进口 / 国产 采购单位 1、 上照射式 X 射线光管，可用于粉末、薄膜、块状样品、液体样品的测试； 4kW 、 30μ m 薄窗 X 射线光管；最高电压 60kV ，最高电流 150mA ；2、含量范围： PPm---100% ；测试 元素： B-U ；3、r-θ 样品台： 可使样品在仪器内部移动， 从而将分析点移动到最大光强处， 有效地使被测点达到高灵敏度分析 4、 CCD 摄像装置：可使样品的位置状态从显示器上 观测，达到准确定位。定点分析最小直径 500μ m。 Mapping 分辨率为 100μ m； 5、采用 新型分光晶体 RX-45 、 RX-61 、LiF(220) 。 6、 24 样品交换器，实现平台共享化，多样品 交换器实现了省空间。 7、两真空泵设计： 仪器在进样端设有预真空室。 缩短抽真空时间， 有效防止粉体样品对分析室污染。仪器配有自动真空系统，可对分析室内的真空度自动 控制，减少 X 光路径真空度变化对轻元素分析所带来的误差。 8、 φ 0.5mm～ φ 35mm 6 位置光阑。光谱室温度稳定性： ± 0.1 oC。9、全自动芯线自动清洗系统，清洁过程不 超过 2min。10、全自动波高分析器：仪器自动判别分辨率，进行脉冲高度自动调整。 11、 全中文版软件： SQX软件、 EZ Scan 软件、定角测量模式、定精度测量、应用模板、散射 线 FP 法、多层薄膜测量软件。 12、样品压片机、样品研磨机、稳压电源、冷却装置（安 1 X 射线荧 (500G 硬盘、 4G内存、 19 寸液晶 1 进口 材料 装完即可测试样品） 13、计算机（一定要与主机匹配） 光光谱仪 处理器 (3.20GHz, 1333MHzFSB, 4MB 高速缓存 ) ，1GBATI 显示器、英特尔 ?酷睿? i3-550 Mobility Radeon ? HD 5470 显卡 ) 、 A4 彩色激光打印机。 14、安装地线及埋地铜板，要 求不大于 10 欧姆。配 PR气体一瓶（氩气（ 90%） +甲烷（ 10%）安装设备工作环境配置 3 匹冷暖空调。 2、 电脑桌 1、规格（长×宽×高）： 160cm×60cm×75cm 2、桌面材质为优质环保 E1 级 18 厚三聚氰胺胶膜纸双贴面中密度板， 桌面周边采用一次成型 ABS注塑包边，包边与桌面平齐 , 桌面周边棱角成圆弧状。 3、书洞规格 470mm*350mm*150mm，采用国标 1mm厚优 质冷扎板一次液压成型 ; 底部有加强筋二根，边缘外翻边成 Ф 5mm圆筒状 书洞与人体接触部分采用圆角。 3、 软包带扶手转椅。 第二包 序号 设备名称 技术参数 数量 用途说明 该实验装置可以测块状和薄膜材料的测量：电阻 -磁场关系（磁电阻）；电压 -电流关系（伏安特性）； 电压 -磁场关系（霍尔效应）；电阻 -温度关系（热敏电阻）；电压 -温度 - 磁场关系（变温霍尔效应）等 材料电磁特性 等。特点：计算机软件控制各个测试条件：如测量电流，温度上升速率，磁场大小，磁场方向，放大器 放大倍数等等。也可以由计算机控制转为手动控制。可同时测量霍尔电势、样品电压、样品电流、样品 1 （效应）综合测 1 温度和磁场强度。性能参数：电势测量范围： 0~±1.9999V; 电势增益范围可调：分三档可调，最高增益 试系统 ≥100 ，最高分辨率 1uV ；样品电压测量范围： 0~±1.2V; 样品电压增益范围：分三档可调，最高增益≥ 20 ，最高分辨率 5 uV ；励磁电流调节范围： 0~2A （程控或手动） ;磁场范围： 0~±400mT; 样品电流： 0~±1.9999mA( 程控或手动 );变温范围： 77.4K~400K; 仪器组成：主机，电磁铁及配件，专用软件， 2 智能可控气氛 功率 2KW ，可控气氛，炉膛尺寸 Φ60×600mm, 智能分段控温，最高加热温度 1000 ℃，控温精度 ±1℃， 1 管式炉 含钼电阻丝加热元件。配石英管长度 80cm 直径 50cm 共 2 根。 X-ray tube KFL-Mo-2K, long fine focus, 0.04 x 12 -- 0.4 x 1.2 and Zr-filter for Mo-K? -radiation, for 本 Mo 靶陶瓷光管 V?NTEC-1 ； 及锆过滤器为现有 3 陶瓷 Mo 靶 X 射 配有全部相应配件及所需软件； 1 德国 Bruker 公司 线光管 负责安装调试； X- 射线衍射仪 D8 安装调试完该配件后，能进行正常测试和数据处理； Advance 的原厂配 负责购买方操作人员的培训。 件。 4