第一章集成电路制造工艺.pptxVIP

第一章 集成电路制造工艺;集成电路制造工艺分类;§1-1 双极型集成电路工艺(P1~5); 思考题;1.1.1典型PN结隔离工艺流程;;1.1.1典型PN结隔离工艺流程（续2）;1.1.1典型PN结隔离工艺流程（续3）;1.1.1典型PN结隔离工艺流程（续4）;1.1.1典型PN结隔离工艺流程（续5）;1.1.1典型PN结隔离工艺流程（续6）;;1.1.3 外延层电极的引出;1.1.4 埋层的作用;1.1.5 隔离的实现;1.1.6 其它双极型集成电路工艺简介;1.1.7 习题;§1.2 MOS集成电路工艺(P5~11); 思考题;1.2.1 N阱硅栅CMOS工艺???要流程 （ 参考P阱硅栅CMOS工艺流程）1.衬底准备;;;;;;1.2.1 N阱硅栅CMOS工艺主要流程（续）  7. P+ active注入（Pplus）（ 硅栅自对准）;1.2.1 N阱硅栅CMOS工艺主要流程（续）  8. N+ active注入（Nplus —Pplus的反版）  （ 硅栅自对准）;1.2.1 N阱硅栅CMOS工艺主要流程（续）  9. 淀积BPSG，光刻接触孔(contact)，回流;1.2.1 N阱硅栅CMOS工艺主要流程（续）  10. 蒸镀金属1，反刻金属1（metal1);1.2.1 N阱硅栅CMOS工艺主要流程（续）  11. 绝缘介质淀积，平整化，光刻通孔(via);1.2.1 N阱硅栅CMOS工艺主要流程（续）  12. 蒸镀金属2，反刻金属2（metal2);1.2.1 N阱硅栅CMOS工艺主要流程（续） 13. 钝化层淀积，平整化，光刻钝化窗孔(pad);;1.2.3 局部氧化的作用;1.2.4 硅栅自对准的作用;1.2.5 MOS管衬底电极的引出;1.2.6 其它MOS工艺简介;1.2.7 习题;§1.3 BI CMOS工艺简介;1.3.1以CMOS工艺为基础的BI-MOS工艺 1.以P阱CMOS工艺为基础;1.3.1以CMOS工艺为基础的BI-MOS工艺 2.以N阱CMOS工艺为基础;1.3.2以双极型工艺为基础的BI-MOS工艺;9、春去春又回，新桃换旧符。在那桃花盛开的地方，在这醉人芬芳的季节，愿你生活像春天一样阳光，心情像桃花一样美丽，日子像桃子一样甜蜜。11月-2011月-20Sunday, November 22, 2020 10、人的志向通常和他们的能力成正比例。21:13:1621:13:1621:1311/22/2020 9:13:16 PM 11、夫学须志也，才须学也，非学无以广才，非志无以成学。11月-2021:13:1621:13Nov-2022-Nov-20 12、越是无能的人，越喜欢挑剔别人的错儿。21:13:1621:13:1621:13Sunday, November 22, 2020 13、志不立，天下无可成之事。11月-2011月-2021:13:1621:13:16November 22, 2020 14、Thank you very much for taking me with you on that splendid outing to London. It was the first time that I had seen the Tower or any of the other famous sights. If Id gone alone, I couldnt have seen nearly as much, because I wouldnt have known my way about. 。22 十一月 20209:13:16 下午21:13:1611月-20 15、会当凌绝顶，一览众山小。十一月 209:13 下午11月-2021:13November 22, 2020 16、如果一个人不知道他要驶向哪头，那么任何风都不是顺风。2020/11/22 21:13:1621:13:1622 November 2020 17、一个人如果不到最高峰，他就没有片刻的安宁，他也就不会感到生命的恬静和光荣。9:13:16 下午9:13 下午21:13:1611月-20