cf彩膜制备工艺.doc

CF 彩膜制备工艺 在 TFT 中，彩膜（ CF ）有红，绿，蓝三种颜色单元， 这三种颜色单元之间由一种黑色不透光的物质填充以防止 漏光及影响 TFT 光电特性。 CF 阵列的特性与所采用的处理 技术非常密切。彩膜表面必须要尽可能的光滑才能得到高纯 度的色散极小的单色光。同时， CF 还必须能与像素表面牢 固的粘贴在一起。由于 CF 位于盒内，因此要求 CF 材料能 足够稳定而不会造成盒内液晶物质的污染。 CF有透明基板，黑矩阵，色阻层，ITO层以及Spacer组成。 透明基板的材料一般选择薄玻璃片或塑料；组成黑矩阵的材 料分布在透明基板上以防止漏光及为 TFT 提供光屏蔽， 黑矩 阵的材料可以是有机的也可以是无机的；色阻层一般通过颜 料或染料作为着色剂而获得红，绿，蓝三种基色；获得色阻 层后，一般会制作 ITO 层（对于 IPS 模式，一般会制作平坦 层）；完成 ITO 之后，最后会制作 Spacer 。 对于 CF 的要求： 1.低能量损耗主要是为了进一步降低 LCD 的驱动成本； 2 ．高纯度单色及高的透色率这个特性是获得 好色彩的关键。通过选择光谱曲线陡峭的颜料用以制作色素 单元剔除掉不必要的光波而仅保留所需要的光线，就可以改 善 CF 色彩纯度及透光性。 3. 高对比度 CF 对比度的定义是： 分别测试夹有 CF 的两块偏光片平行放置和交叉放置时的光 透过强度，它们的比值就是 CF 对比度； 4. 低反射反射率主 要取决于 TFT-LCD 模块中组成 CF 的黑框材料的特性。 铬， 三氧化二铬，黑色树脂由于它们的遮光性和低反射性而被广 泛用于 STN-LCD 和 TFT-LCD 。高电阻，高可见光密度，高 遮光性，高解析度，低反射系数及低成本黑框材料是 LCD 应用领域的宠儿，好的显示效果要求低反射系数。 5.优良的 热稳定性， 光稳定性及化学稳定性在形成对位层步骤时， CF 必须要具有较高的热稳定性以保证不会被液化及发生色彩 变化。由于像素是通过 LCD 的背光照射发光的，因此，像 素材料光照时的稳定性是非常重要的。通常要求，用装有 UV 滤光器的汞 -XE 灯照射 CF 2 百万勒克斯小时以上， 色彩 强度的变化小于 3；由于 CF 在 LCD 制作过程中会接触到各 种溶剂，酸或碱等化学物质，其化学稳定性是非常重要的。 比如保护层，必须对制作对位层用到的溶剂如 NMP和y丁 内酯，蚀刻 ITO 线路时用到的酸或显影时用到的碱保持良好 的化学稳定性。 CF 的主要工艺方法： 一、着色感材法 二、染色法 三、转写法 四、电着法 五、印刷法 六、喷墨法 各种工艺方法的优缺点比较 ◎:很好O：好△: 一般X:差 CF 工艺的发展