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半导体器件物理
MOSFET (三)
半导体器件物理
饱和电压 V V −V
DSat GS T
线性区
I Z μC ⎡(V =−V )V −1V 2 ⎤
D L n OX ⎣ Gs T DS 2 DS ⎦
饱和区
Z 2
I μ C (V =−V )
DSat n OX GS T
2L
半导体器件物理
亚阈值特性
• 理想特性:
– V ≤V 时,I =0
GS T D
• 实际情况:
– 仍有微小电流存
在,称为亚阈值电
流IDsub
半导体器件物理
亚阈值特性
• 下图为 ψ V 2 ψ 时的能带图
F S F
• 此时半导体表面弱反型,相当于低掺杂的n型区。
半导体器件物理
亚阈值特性
(a) nMOSFET结构 (c) 表面弱反型
(b) 表面积累 (d) 表面反型
半导体器件物理
亚阈值特性
• 萨方程不适用于亚阈值区的原因:
– 强反型近似中的关于耗尽层的假定不适用该假定认
为:V ≤V 时,Q =0 。而实际上,在亚阈值区表
GS T n
面反型层已经出现,表面沟道已经形成。只是在强
反型时,由于|Q |数值很大,计算|Q |时可忽略
n n
V =V 时已经出现了的表面电子电荷。
GS T
– 只考虑了漂移电流,未考虑扩散电流在亚阈值区,
扩散电流漂移电流。亚阈值区导电与BJT中基区
的电流传输有些相似。
半导体器件物理
亚阈值特性
公式推导:
输运方程(扩散电流漂移电流):
沟道总电流:
积分得到:
求Q 的表达式
n
利用能带图,得到
利用Possion方程求解Qn
半导体器件物理
亚阈值特性
• 求出上述两项,就可以推导出亚阈值电流的表达
式:
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