一种黑色片材及其制备方法和应用发明专利.pdfVIP

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2021-09-13 发布于浙江
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一种黑色片材及其制备方法和应用发明专利.pdf

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(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112853269 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 201911180352.9 (22)申请日 2019.11.27 (71)申请人比亚迪股份有限公司地址 518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号 (72)发明人刘玉阳　陈梁　王继厚　许旭佳　胡威威　 (51)Int.Cl. C23C 14/16(2006.01) C23C 14/18(2006.01) C23C 14/10(2006.01) C23C 14/06(2006.01) C23C 14/35(2006.01) H04N 5/225(2006.01) 权利要求书1页说明书7页 (54)发明名称一种黑色片材及其制备方法和应用 (57)摘要本发明涉及一种黑色片材及其制备方法和应用。该黑色片材包括：基材和位于该基材表面上的薄膜，其特征在于，该薄膜至少包括依次叠加的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，所述第一膜层位于所述基材的表面；所述第一膜层和所述第三膜层各自独立地含有Al和Si，所述第二膜层和所述第四膜层各自独立地为SiO 和/ 2 或MgF 形成的层；所述第一膜层的厚度为40- 2 85nm，所述第三膜层的厚度为5-25nm。该黑色片材的可见光的反射率低，能实现全黑效果。 A 9 6 2 3 5 8 2 1 1 N C CN 112853269 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种黑色片材，该黑色片材包括：基材和位于该基材表面上的薄膜，其特征在于，该薄膜至少包括依次叠加的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，所述第一膜层位于所述基材的表面；所述第一膜层和所述第三膜层各自独立地含有Al和Si，所述第二膜层和所述第四膜层各自独立地为SiO 和/或MgF 形成的层；所述第一膜层的厚度为40-85nm，所述第 2 2 三膜层的厚度为5-25nm。 2.根据权利要求1所述的黑色片材，其特征在于，所述第一膜层的厚度为50-80nm；所述第二膜层的厚度为60-90nm；所述第三膜层的厚度为10-20nm；所述第四膜层的厚度为70-120nm。 3.根据权利要求1或2所述的黑色片材，其特征在于，所述第一膜层和所述第三膜层各自独立地还有Nb和/或Cr；优选地，所述第一膜层为AlNbCrSi层，所述第二膜层为SiO 层，所述第三膜层为 2 AlNbCrSi层，所述第四膜层为SiO 层。 2 4.根据权利要求1所述的黑色片材，其特征在于，所述黑色片材的反射率不超过1%。 5.根据权利要求1所述的黑色片材，其特征在于，所述基材为玻璃或金属。 6.一种黑色片材的制备方法，其特征在于，该制备方法包括：通过PVD法在基材的表面上至少形成依次叠加的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层；所述第一膜层和所述第三膜层各自独立地含有Al和Si，所述第二膜层和所述第四膜层各自独立地为SiO 和/或MgF