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真空镀膜与光学镀膜对比 真空镀膜与光学镀膜对比 PAGE PAGE / NUMPAGESPAGE6 真空镀膜与光学镀膜对比 PAGE 真空镀膜 主要利用辉光放电 (glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材 (target)表面, 靶材的原子被弹出而聚积在基板表面形成薄膜。 溅镀薄膜的性质、平均度都比蒸镀薄膜来的 好,可是镀膜速度却比蒸镀慢好多。新式的溅镀设施几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加快靶材四周的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增添 , 提升溅镀速率。一般金属镀膜多数采纳直流溅镀 基本的原理是在真空中利用辉光放电 (glow  ,而不导电的陶磁资料则使用  RF  沟通溅镀  , discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材 (target)表面，电浆中的阳离子会加快冲向作为被溅镀材的 负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而堆积在基板上形成薄膜。一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特色：(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜资料。(2)再适合的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一构成的薄膜。(3)利用放电氛围中加入氧或其余的活性气体，能够制作靶材物质与气体分子的混淆物或化合物。(4)靶材输入电流及溅射时间能够控制，简单获得高精度的膜厚。(5)较其余制程利于生产大面积的均一薄膜。(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板地点可自由安排。(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的 倍以上，且因为溅射粒子带有高能量，在成膜面会持续表面扩散而获得硬且致密的薄膜， 同时此高能量使基板只需较低的温度即可获得结晶膜。(8)薄膜形成早期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜。(9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。(10)靶材可制作成各样形状，配合机台的特别设计做更好的控制及最有效率的生产。 光学镀膜 一、 耐磨损膜（硬膜） 不论是无机资料仍是有机资料制成的眼镜片，  在平时的使用中，因为与尘埃或砂砾（氧化硅） 的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片对比， 有机资料制成的硬性度比较低， 更易产生划痕。经过显微镜，我们能够察看到镜片表面的划 痕主要分为二种，一是因为砂砾产生的划痕，浅而渺小，戴镜者不简单觉察；另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗拙，处于中心地区则会影响视力。 （1）技术特色 1）第一代抗磨损膜技术 抗磨损膜始于 20世纪 则太软所以简单磨损。  70年月初，当时以为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高， 而有机镜片 所以将石英资料于真空条件下镀在有机镜片表面， 形成一层特别硬的 抗磨损膜，但因为其热胀系数与片基资料的不般配， 很简单脱膜和膜层脆裂， 所以抗磨损效 果不理想。 2）第二代抗磨损膜技术 20世纪80年月此后，研究人员从理论上发现磨损产生的机理不只是与硬度有关，膜层资料拥有“硬度/形变”的两重特征，即有些资料的硬度较高，但变形较小，而有些资料硬度较低，但变形较大。第二代的抗磨损膜技术就是经过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的资料。 3）第三代抗磨损膜技术 第三代的抗磨损膜技术是 20世纪90年月此后发展起来的，主假如为认识决有机镜片镀上减 反射膜层后的耐磨性问题。 因为有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差异， 新 的理论以为在二者之间需要有一层抗磨损膜层， 使镜片在遇到砂砾磨擦时能起缓冲作用， 并 而不简单产生划痕。第三代抗磨损膜层资料的硬度介于减反射膜和镜片片基的硬度之间， 其 磨擦系数低且不易脆裂。 4）第四代抗磨损膜技术 第四代的抗膜技术是采纳了硅原子，比如法国依视路企业的帝镀斯（ TITUS）加硬液中既含 有有机基质，又含有包含硅元素的无机超微粒物， 使抗磨损膜具备韧性的同时又提升了硬度。 现代的镀抗磨损膜技术最主要的是采纳浸泡法， 即镜片经过多道冲洗后，浸入加硬液中， 一 准时间后，以必定的速度提起。 这一速度与加硬液的黏度有关， 并抗衡磨损膜层的厚度起决 定作用。提起后在100°C左右的烘箱中聚合 4－5小时，镀层厚约3－5微米。 （2）测试方法 判断和测试抗磨损膜耐磨性的最根本的方法是临床使用， 让戴镜者配戴一段时间，而后用显 微镜察看并比镜片的磨损状况。 自然，这往常是在这一新技术正式推行前所采纳的方法， 目 前我们常用的较快速、直观的测试方法是： 1）磨砂试验 将镜片置于盛有砂砾的宣传品内 （规定了砂砾的粒度和硬度 )，在必定的控制下作往返磨擦。 结束后用雾度计测试镜片磨擦前后的光芒漫反射量，并且与标准镜片作比较。 2）钢丝绒试验 用一种规定的钢丝绒，在必定的压力和速度下，在镜片表面上磨擦一珲的次数，而后用雾度计测试镜片磨擦前后的光芒漫反射量，并且与标准镜片作比较。自然，我们也能够手工操作，对二片镜片用