透射电子显微镜结构.pptVIP

5.7.2 消像散器 消像散器是对电磁透镜磁场椭圆度进行补偿矫正的，分为两种： ① 机械式—在电磁透镜周围放置几块位置可调的导磁体，用它们来吸引一部分磁场，把固有的椭圆磁场矫正接近旋转对称。 ② 电磁式 通过磁极间的吸引和排斥来校 正椭圆磁场。由两组4对磁体 同极相对安放，通过改变两组 电磁体的激磁强度和磁场方向 把固有椭圆磁场矫正为轴对称 磁场，以消除像散。 TEM 第六十二页，共91页。 5.7.3 光阑 在TEM中有许多固定光阑和可动光阑，主要作用是挡掉发散的电子，保证电子束的相干性和照射区域。其中3种可动光阑分别是第二聚光镜光阑、物镜光阑和选区光阑。光阑都是由无磁性金属（Pt、Mo）制成，4个或6个一组的光阑孔被安放在光阑杆支架上。 使用时，通过光阑 杆的分档机构按照 需要依次插入，使 光阑孔位于电子 束轴线上。 TEM 第六十三页，共91页。 1、第二聚光镜光阑 第二聚光镜光阑的作用是限制照明孔径角，安放在第二聚光镜下方的焦点位置上。光阑孔直径为20~40μm范围。 2、 物镜光阑 ——又称衬度光阑，放置在物镜背焦面上，常用孔径为20~120μm范围。电子束 通过样品后产生散射和衍射，散射 角度较大的电子被光阑挡住，不能 继续进入镜筒成像，从而在像平面 形成具有一定衬度的像。 物镜 透射束 散射束 物镜光阑 TEM 第六十四页，共91页。 光阑孔↓→被挡住的电子越多→图象衬度越大。 物镜光阑的另一个作用是在后焦面上套取衍射斑点成暗场像。 物镜光阑 OA T D OA 晶体 物镜 D T OA TEM 第六十五页，共91页。 3、选区光阑—场限光阑、视场光阑 为分析样品上的微区（一般为微米数量级），在样品上放置一个光阑，使电子束只能通过光阑限定的微区—“选区衍射”。实际？ 在物镜像平面上放置一选区光阑，其效果相当于在样品上放置虚光阑，但光阑孔可以做的比较大。若物镜放大倍数为50倍，一个直径为50μm的选区光阑可以选择样品上直径为1μm的微区。 选区光阑的作用就是进行选区衍射，放置在物镜像平面上，直径范围在20~400 μm。 TEM 选区光阑 物镜 虚光阑 样品 返回 第六十六页，共91页。 5.8 TEM的功能及发展 自从1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜以来，TEM得到了长足的发展，主要集中在以下3个方面： ⑴ TEM的功能扩展； ⑵ 分辨率的提高； ⑶ 计算机和微电子技术应用于控制系统、观察记录系统。 5.8.1 TEM功能的扩展 分析型电镜—样品形貌观察（TEM）、原位电子衍射（Diff） 、原位成分分析（能谱仪EDS、特征能量损失谱EELS）、表面形貌观察（二次电子像SED、背散射电子像BED）和透射扫描像（STEM）。 TEM 第六十七页，共91页。 结合样品台设计成拉伸台、低温台和高温台，TEM还能在拉伸状态、低温冷却状态和高温状态下观察样品动态的组织结构、成分变化。 TEM功能的拓展使得在不更换样品的情况下可以进行多种分析，尤其可以针对同一微区进行形貌、晶体结构、成分（价态）的全面分析。 5.8.2 分辨率的提高 目前，200kV的TEM分辨率高于0.2nm，而1000kV的分辨率达到0.1nm。TEM分辨率的高低取决于电磁透镜制造水平的不断提高，球差矫正器的发明可以将球差矫正到希望的值。 TEM 第六十八页，共91页。 TEM加速电压不断提高，从80kV、120kV、200kV，直至1000kV以上，并开发了MV的超高压电镜；为获得亮度高相干性好的照明源，开发了LaB6单晶灯丝和场发射电子枪。 高分辨透射电子显微镜（HRTEM）—舍弃了各种附件，使分辨率可以达到0.1nm甚至更高。 5.8.3 计算机技术应用 计算机和微电子技术的应用使TEM自动化程度大大提高；在观察系统中加入摄像系统，使观察分析更为方便，且可连续记录；CCD相机的使用，可以将图象信号直接传送到计算机显示器上，与样品台转动结合起来，将不同方位的图象用计算机合成后可以得到三维图象。 TEM 返回 第六十九页，共91页。 高电压：增加电子穿透试样的能力，可观察较厚、较具代表性的试样现场观察(in-situ observalion) 辐射损伤; 减少波长散怖像差(chromatic aberration) ; 增加分辨率等，目前已有数部2一3 MeV 的TEM在使用中。 高分辨率：已增进到厂家保证最佳解像能为点与点间0.18 nm、线与线间0.14nm。美国於1983年成立国家电子显微镜中心，其中l000 keV之原子分辨电子显微镜 (atomic resolution electron microscope，AREM) 其点与点间之分辨率达0. 17nm，可直接观察晶体中的原子。