抛光机的结构设计和静力学分析.docxVIP

摘要 现代的硅片、宝石窗口、激光切片等平面构件在现代光学中大量运用，在微电子 和航空航天等众多高科技领域也是如此，可见市场需求广大，而且不断增长的趋势也越 来越好。这样的平面构件是大直径厚壁结构的较高难度的加工构件，它的成品有较高的 平面度和平行度，以及高要求的表面质量和加工效率。而对于现在的工业水平来讲，机 械抛光是能够最大化的满足低表面的粗糙度和高面形精度要求。针对大尺寸平面构件机 械抛光中，高面形精度和高表面质量的加工要求，分析了影响机械抛光加工质量的主要 因素，也进行了抛光机的结构设计和静力学分析，形成了超精密抛光机床的设计。大致 研究内容如下： 大体分析了在抛光加工中对大尺寸平面构件面形精度和表面质量的主要影响因 素;提出了机床应具有主轴及工件回转精确控制，盘面面形测量，盘面面形修整，盘面 温度控制等功能;确定了机床的基本结构形式、工作流程和主要参数。 基于多体理论，明确了对抛光盘面形精度存在影响的主要误差元素，分析了对面 形误差中占主导作用的误差元素及其影响因素，为机床运动单元的设计和装配提供了依 据。 从机床的功能性与可靠性出发，对机床的主要功能单元进行了结构设 计。抛光盘回转单元采用了液体静压轴承与力矩直驱电机的结构，盘面温度控制 单元中采用内流道式水冷盘，保证加工区域温度一致性;抛光盘面形修整系统配 合盘面面形测量系统实现车刀对于盘面特定面形的针对性修整;完成了关键结构 部件的静力学。分析结果表明，抛光盘与床身静力载荷下最大变形分别为0.81 U m和9.18 um,最大应力为5.465 MPa和0.081 MPa，满足机床稳定性可靠性的 设计要求。 针对100 mm X 100 mm尺寸的晶体基片，在研制的超精密抛光机床上， 进行了加工试验。在试验中，机床抛光盘面形平面度为0.028 mm,加工过程中 主轴回转速度波动量为0.36%,晶体工件特征点平均表面粗糙度在加工后明显变 小许多。试验结果表明，所研制的超精密抛光机床满足了大尺寸平面构件高几何 精度和高表面质量的加工要求。 关键词：大尺寸、机械抛光、抛光机床 Design and Development of Ultra-Precision Polishing Machine Abstract Modern wafers, gem windows, laser slices and other planar compon ents are widely used in modern optics, as well as in microelectronic s, aerospace and many other high-tech fields. It can be seen that t he market demand is vast, and the growing trend is getting better a nd better. This kind of planar component is a di fficult machining co mponent of large-diameter thick-walled structure, and its finished prod uct has high flatness and parallelism, as well as high surface quali ty and machining efficiency. For the current industrial level, mechani cal polishing can maximize to meet the requirements of low surface r oughness and high surface shape accuracy. According to the machining requirements of high surface precision and high surface quality in me chanical polishing of large size planar components, the main factors affecting the machining quality of mechanical polishing are analyzed, and the structure design and statics analysis of the polishing machin e are also carried out. the design of ultra-precision polishing machi ne is forme