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会计学
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CatiaV间隙面差分析
ICEM shape design－Gap Analysis
测量平面即为所选的引导线的法平面，分布密度可以设定。
分布密度（Density）：沿间隙走向上布置多少个测量平面进行间隙测量。
比例（Scale）：
采样点数（Points）：参考断面上的采样点数。
间隙测量平面
间隙断面
引导线
目标断面
参考断面
最小间隙
采样点
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ICEM shape design－Gap Analysis
参数设置：
不选：将显示间隙值的梳状图。
范围：需设定间隙区间，将显示超出该区间的偏差值的梳状图。
优化间隙值：将显示与该值作比较的偏差值的梳状图。
间隙值+上下偏差值：超出区间值的偏差梳状图。
不选：显示间隙值的梳状图
范围：显示偏差值的梳状图
优化间隙值：显示比较偏差值的梳状图
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ICEM shape design－Leveling Analysis
基于不同的测量方法将得到不同的面差值。
面差分析功能通过对参考对象和目标对象的不同延长方式进行组合即得到不同出测量方式。
延长方式：
无：对选取的对象不作处理。
边界最大化：若选择此模式，则选择一边界线（记为曲线Ａ）后还需选择一个支持面，通常是圆角面。系统根据支持面的等参线走向找到曲线Ａ对应的边界线Ｂ，然后过曲线Ａ和曲线Ｂ作支持面的切面，两者的交线即为测量用的理论边线。（相当于去圆角，找出一条原始锐边）
边界：与最大化不同的地方在于，优先找曲线Ｂ，使得两切面垂直，若找不到，按上述做法执行。
Ａ
Ｂ
切面
理论边线
垂直
不一定垂直
参考对象和目标对象可以是点，线和面
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ICEM shape design－Leveling Analysis
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