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ALD技术发展与应用 ALD技术发展与应用 ALD技术发展与应用 ALD技术的发展与应用 大纲:随着微电子行业的发展  ,集成度不断提高、器件尺寸持续减小，  使得好多传统微电子 材料和科技面对巨大挑战  ,但是原子层沉积（  ALD）技术作为一种优异的镀膜技术  ,因其沉 淀的薄膜纯度高、平均性及保行性好，还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分,依旧备受关 注并被广泛应用于半导体领域。  本文简要介绍了  ALD  技术的原理、沉积周期、特点、优势、 化学吸附自限制  ALD  技术及  ALD  本身作为一种技术的发展状况  (T—ALD,PE-ALD  和  EC —ALD  等);重点表达了  ALD  技术在半导体领域（高  k材料、IC互连技术等  )应用.最后,对ALD 未来的发展应用前景进行了展望. 重点字:原子层沉积;薄膜积淀；高K材料;铜互连 TheDevelpoementandApplicationofALDTechnology Suyuan SchoolofMicroelectronics,XidianUniversity,XianShanxi710071 Abstract：Thelatestdevelopmentofatomiclayerdeposition(ALD)technologywastentativelyrev