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55.
56. 如何用磁控溅射制备形状记忆薄膜NiTi？
57. 纳米材料有那些特殊性能？
58. 举出三种
59. 三族元素氮化物的特性如何？谈谈主要应用领域。
60. 什么是巨磁电阻和庞磁电阻？巨磁电阻薄膜有什么应用？
填空题〔每题5分〕
1. 热蒸发时沉积速率的大小与 、 、 等因素有关。在合金材料蒸发时，为了保证蒸发膜组分与源的一致，可采用 、
2. 分子泵是 泵〔有油、无油〕，常用 ， 等低真空泵的作其前级泵；分子泵正常使用时，腔体真空度必须到达 时才能与分子泵连通。在分子泵停止转动后，冷却水和机械泵可以 关闭。
3. 核形成有两种主要理论： 和 。
但凡自发的相变都应伴随者体系 能的降低。
写出外延沉积Si薄膜的三种化学反响： 、
、 ；
用Si3N4薄膜可用以下反响生成： 。
5. Pa，Torr，atm 都是真空的量度单位。1 N/m2 = Pa；
1 atm = Pa；1 Torr = mmHg = Pa。
、 、
、 等 。
X射线衍射峰的极大值满足布拉格公式，它的形式为： ，
式中，θ为 与 的夹角；利用谢乐公式：
由X射线谱可计算晶粒的大小，其中B为衍射峰 。
、
、 、 、
等主要工艺过程。
9. 机械泵是低真空泵，常用作 ， 等高真空泵的前级泵；为了防止油对样品的污染，常用 ， 等无油泵作高真空泵；在扩散泵停止后，应当保持冷却水畅通，在 分钟后可以关闭冷却水和机械泵。
10 、 、
、 、 、 等。
11. 溅射率的大小与 、 、 等因素有关。常用的溅射角? 在 范围，常用的溅射能量在 范围。
12. 化学气相沉积必须具备的三个条件是： 、
、
13 的沉积速率〔高或低〕、 的样品温度〔高或低〕、 静电场〔加或不加〕和 沉积〔倾斜或垂直〕。
14 、 、 ；
、 、 ；
二、概念题〔每题10分〕
表达电离规测量真空度的原理和电离规的使用本卷须知。
溅射率与那些因素有关？对一定的溅射材料，如何选择适宜的溅射条件得到最大的溅 射率？
3.
4. 简要表达薄膜的主要生长过程。
5. 什麽是化学镀？它与电镀成膜的主要差异什麽？
6. 金刚石薄膜与类金刚石薄膜的主要结构差异是什么？在其制备过程中原子H起什么作用？
7. 表达热偶规、电离规测量真空度的原理和本卷须知。
写出C
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