有机合成中的氨基保护及应用综述..pdfVIP

有机合成中的氨基保护及应用(综述 Ξ 高旭红 李炳奇 (石河子大学师范学院化学系,石河子,832003 提要 氨基是一个活性大、易被氧化的基团,在有机合成中需要用易于脱 去的基团进行保护。综述了常用的氨基保护方法和保护基,并列举了大量实例说明 其在有机合成中的应用。 关键词 有机合成 氨基 氨基保护中图分类号 O61213 胺类化合物对氧化和取代等反应都很敏感,为了使分子其它部位进行反应时氨 基保持不变,通常需要用易于脱去的基团对氨基进行保护。例如,在肽和蛋白质的合 成中常用氨基甲酸酯法保护氨基,而在生物碱及核苷酸的合成中用酰胺法保护含氮 碱 基〔1,2〕。化学家们在肽的合成领域内,对已知保护基的相对优劣进行了比较 并在继续寻 找更有效的新保护基。除了肽的合成外,这些保护基在其它方面也有很多重要 应用。下面介绍保护氨基的一些主要方法和基团。 1 形成酰胺法 将胺变成取代酰胺是一个简便而应用非常广泛的氨基保护法。单酰基往往足以 保护一级胺的氨基,使其在氧化、烷基化等反应中保持不变,但更完全的保护则是与 二元酸形成的环状双酰化衍生物。常用的简单酰胺类化合物其稳定性大小顺序为甲 酰基乙酰基苯甲酰基。 酰胺易于从胺和酰氯或酸酐制备,并且比较稳定,传统上是通过在强酸性或碱性 溶液中加热来实现保护基的脱除。由于若干基质,包括肽类、核苷酸和氨基糖,对这 类脱除条件不稳定,故又研究出了一些其他脱除方法,其中有甲酰衍生物的还原法, 甲 酰基以及32(对羟苯基丙酰基衍生物的氧化法,苯酰基和32(对羟苯基丙酰基衍生物 的电解法, 卤代酰基、乙酰代乙酰基以及邻硝基、氨基、偶氮基或苄基衍生物等“辅 助脱除法”,等等。 为了保护氨基, 已经制备了很多N 2 酰基衍生物,上述的简单酰胺最常用, 卤代乙 酰基衍生物也常用。这些化合物对于温和的酸水解反应的活性随取代程度的增加而 增 第3 卷 第1 期1999 年3 月 石河子大学学报( 自然科学版Journal of Shihezi U niversity(N atural Science V ol 13 N o 11 Mar 11999 Ξ 收稿日期:1998209214 加:乙酰基氯代乙酰基二氯乙酰基三氯乙酰基三氟乙酰基〔2 〕。此外,在 核苷酸合成的磷酸化反应中,胞嘧啶、腺嘌呤和鸟嘌呤中的氨基是分别由对甲氧苯 酰基、苯酰 基和异丁酰或22 甲基丁酰基予以保护的,这些保护基是通过氨解脱除的〔3 〕 。另外,伯胺能以酰胺的形式加以保护,这就防止了活化的N 2 乙酰氨基酸经过 内酯中间体发生外消旋化。111 甲酰衍生物 胺类化合物很容易进行甲酰化反应,常常仅用胺和98% 的甲酸制备。甲酸乙酸 酐也是一个有用的甲酰化试剂。对于某些容易发生消旋化的氨基酸可用甲酸和 N ,N ′2 双 环己基碳二亚胺(DCC 在0 ℃时进行甲酰化反应〔4 〕,也可用酯类进行氨解 〔5 〕 。 RCHCO -NH 2 98% HCO 2H ,Ac 2O 25 ℃,1h ,78%~90% RCHCO -NHCHO (1 此甲酰胺对于酯基的皂化条件相当稳定〔6 〕。 RCHCO 22t 2Bu NH 2 HCOOH ,DCC ,Py 0 ℃,4h RCHCO 22t 2Bu NHCHO (2 (87%~90% 以此法制备丁基氨基酸酯的N 2 甲酰衍生物时,外消旋化的程度最低〔7 〕。 CH R CO 2R NH 2HX +[HC O 2H +EtN C N (CH 23NMe 2HCl 0 ℃15min (HC O 2O ] N - 甲基吗啉5℃,20h CH R CO 2R 〔8 〕 NHCHO (65%~96% (3 CH 2(CO 2R 2NaNO 2H OAc HON C (CO 2R 2Zn/HCO 2H HCONHCH (CO 2R 2 〔9 〕 (4 R Me ,Et 甲酰胺类是相当稳定的化合物,因此广泛应用于肽的合